真空处理装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201020658163.6

申请日：

2010-11-30

公开(公告)号：

CN201873752U

公开(公告)日：

2011-06-22

发明(设计)人：

张昭

申请人：

申请人地址：

英属维京群岛托托拉岛罗德城三一会4301

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

代理机构：

上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249

代理人：

张静洁;徐雯琼

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-12-18	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C23C 16/44 申请日:20101130 授权公告日:20110622
2017-04-26	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101750350951 IPC(主分类):C23C 16/44 专利号:ZL2010206581636 登记生效日:20170401 变更事项:专利权人变更前权利人:理想能源设备有限公司变更后权利人:上海理想万里晖薄膜设备有限公司变更事项:地址变更前权利人:英属维京群岛托托拉岛罗德城三一会4301 变更后权利人:上海市松江区思贤路3255号3幢403室

共 50 条

[1]

真空处理装置 [P].

郭久林 ;

张志强 ;

杨志刚 .

中国专利 :CN112323034A ,2021-02-05

[2]

真空处理装置 [P].

曹生贤 ;

池东俊 .

中国专利 :CN102017095A ,2011-04-13

[3]

真空处理装置、真空处理方法 [P].

饭岛荣一 ;

池田裕人 ;

箱守宗人 .

中国专利 :CN102112646A ,2011-06-29

[4]

原油真空处理装置 [P].

李龙军 ;

高峰 ;

张遂芬 .

中国专利 :CN201785356U ,2011-04-06

[5]

真空处理装置、真空处理系统和真空处理方法 [P].

山岸孝幸 ;

小林民宏 .

中国专利 :CN110610873B ,2019-12-24

[6]

真空处理装置及真空处理方法 [P].

佐竹彻 .

中国专利 :CN103392027A ,2013-11-13

[7]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

福田义朗 ;

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

杉村道成 .

日本专利 :CN117626213A ,2024-03-01

[8]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

木本孝仁 ;

藤井琢也 ;

坂本纯一 ;

佐藤昌敏 .

日本专利 :CN120330662A ,2025-07-18

[9]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

近藤昌树 ;

林辉幸 ;

齐藤美佐子 .

中国专利 :CN101310041A ,2008-11-19

[10]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

福田义朗 ;

前平谦 .

日本专利 :CN117587377A ,2024-02-23

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