真空处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910717248.2

申请日：

2019-08-05

公开(公告)号：

CN112323034A

公开(公告)日：

2021-02-05

发明(设计)人：

郭久林张志强杨志刚

申请人：

申请人地址：

430070 湖北省武汉市东湖开发区关东科技工业园华光大道18号高科大厦8楼8078室

IPC主分类号：

C23C1448

IPC分类号：

C23C1432 C23C1435 C23C1456

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：

刘林华;金飞

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-02-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/48 申请日:20190805
2021-02-05	公开	公开

共 50 条

[1]

真空处理装置 [P].

曹生贤 ;

池东俊 .

中国专利 :CN102017095A ,2011-04-13

[2]

真空处理装置 [P].

张昭 .

中国专利 :CN201873752U ,2011-06-22

[3]

真空处理装置、真空处理方法 [P].

饭岛荣一 ;

池田裕人 ;

箱守宗人 .

中国专利 :CN102112646A ,2011-06-29

[4]

真空处理装置、真空处理系统和真空处理方法 [P].

山岸孝幸 ;

小林民宏 .

中国专利 :CN110610873B ,2019-12-24

[5]

真空处理装置及真空处理方法 [P].

佐竹彻 .

中国专利 :CN103392027A ,2013-11-13

[6]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

福田义朗 ;

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

杉村道成 .

日本专利 :CN117626213A ,2024-03-01

[7]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

木本孝仁 ;

藤井琢也 ;

坂本纯一 ;

佐藤昌敏 .

日本专利 :CN120330662A ,2025-07-18

[8]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

近藤昌树 ;

林辉幸 ;

齐藤美佐子 .

中国专利 :CN101310041A ,2008-11-19

[9]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

佐佐木俊介 ;

木本孝仁 ;

福田义朗 ;

前平谦 .

日本专利 :CN117587377A ,2024-02-23

[10]

真空处理方法以及真空处理装置 [P].

宫原弘臣 ;

西宫立享 .

中国专利 :CN101548365B ,2009-09-30

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