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包括二维材料的晶体管
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110981236.8
申请日
:
2021-08-25
公开(公告)号
:
CN114256334A
公开(公告)日
:
2022-03-29
发明(设计)人
:
K·K·马克西
A·V·佩努玛查
C·H·内勒
C·J·杜罗
K·P·奥布赖恩
S·希瓦拉曼
T·A·戈萨维
U·E·阿夫哲
申请人
:
申请人地址
:
美国加利福尼亚州
IPC主分类号
:
H01L2908
IPC分类号
:
H01L2910
H01L2912
H01L2924
H01L2978
H01L2518
H05K118
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
:
申屠伟进;吕传奇
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-03-29
公开
公开
共 50 条
[1]
基于二维材料的低功耗晶体管散热结构
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
赵珉
;
刘桂英
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机构:
岭南师范学院
岭南师范学院
刘桂英
;
论文数:
引用数:
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机构:
黄晓桃
.
中国专利
:CN119993929A
,2025-05-13
[2]
二维材料晶体管器件及其形成方法
[P].
姜长城
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
姜长城
;
李昱辰
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
李昱辰
;
张海洋
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
张海洋
.
中国专利
:CN118712227A
,2024-09-27
[3]
包括二维沟道的晶体管和电子设备
[P].
李珉贤
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李珉贤
;
薛珉洙
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薛珉洙
;
申铉振
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申铉振
.
中国专利
:CN113224127A
,2021-08-06
[4]
基于二维材料制备的场效应晶体管
[P].
汤乃云
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汤乃云
;
马逸晨
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马逸晨
.
中国专利
:CN209515673U
,2019-10-18
[5]
基于二维电子气调控背栅的二维材料晶体管、制法和应用
[P].
于国浩
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于国浩
;
丁晓煜
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丁晓煜
;
宋亮
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宋亮
;
张晓东
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张晓东
;
蔡勇
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蔡勇
;
张宝顺
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张宝顺
.
中国专利
:CN110504297B
,2019-11-26
[6]
二维自对准的晶体管接触
[P].
A·C-H·魏
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A·C-H·魏
;
G·布赫
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G·布赫
;
M·A·扎勒斯基
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M·A·扎勒斯基
;
T·G·尼奥吉
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T·G·尼奥吉
;
J·E·史蒂芬斯
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J·E·史蒂芬斯
;
桂宗郁
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桂宗郁
;
J·曾
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J·曾
.
中国专利
:CN104979279A
,2015-10-14
[7]
包括二维材料的晶体管及相关半导体装置、系统及方法
[P].
W·库拉
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机构:
美光科技公司
美光科技公司
W·库拉
;
G·S·桑胡
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美光科技公司
美光科技公司
G·S·桑胡
;
J·A·斯迈思
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机构:
美光科技公司
美光科技公司
J·A·斯迈思
.
美国专利
:CN118448454A
,2024-08-06
[8]
包括二维材料的晶体管及相关半导体装置、系统及方法
[P].
W·库拉
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W·库拉
;
G·S·桑胡
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G·S·桑胡
;
J·A·斯迈思
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J·A·斯迈思
.
中国专利
:CN112640126A
,2021-04-09
[9]
基于二维材料的晶体管及其制备方法
[P].
卢年端
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卢年端
;
李泠
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李泠
;
揣喜臣
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揣喜臣
;
杨冠华
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杨冠华
;
耿玓
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耿玓
;
刘明
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刘明
.
中国专利
:CN109671781B
,2019-04-23
[10]
包括二维材料的晶体管及相关半导体装置、系统及方法
[P].
W·库拉
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机构:
美光科技公司
美光科技公司
W·库拉
;
G·S·桑胡
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机构:
美光科技公司
美光科技公司
G·S·桑胡
;
J·A·斯迈思
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机构:
美光科技公司
美光科技公司
J·A·斯迈思
.
美国专利
:CN112640126B
,2024-05-17
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