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包括二维材料的晶体管及相关半导体装置、系统及方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201980056821.8
申请日
:
2019-08-12
公开(公告)号
:
CN112640126A
公开(公告)日
:
2021-04-09
发明(设计)人
:
W·库拉
G·S·桑胡
J·A·斯迈思
申请人
:
申请人地址
:
美国爱达荷州
IPC主分类号
:
H01L29778
IPC分类号
:
H01L2966
H01L218234
H01L2102
代理机构
:
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287
代理人
:
王艳娇
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-04-27
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/778 申请日:20190812
2021-04-09
公开
公开
共 50 条
[1]
包括二维材料的晶体管及相关半导体装置、系统及方法
[P].
W·库拉
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
美光科技公司
美光科技公司
W·库拉
;
G·S·桑胡
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机构:
美光科技公司
美光科技公司
G·S·桑胡
;
J·A·斯迈思
论文数:
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0
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0
机构:
美光科技公司
美光科技公司
J·A·斯迈思
.
美国专利
:CN118448454A
,2024-08-06
[2]
包括二维材料的晶体管及相关半导体装置、系统及方法
[P].
W·库拉
论文数:
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0
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机构:
美光科技公司
美光科技公司
W·库拉
;
G·S·桑胡
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机构:
美光科技公司
美光科技公司
G·S·桑胡
;
J·A·斯迈思
论文数:
0
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0
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0
机构:
美光科技公司
美光科技公司
J·A·斯迈思
.
美国专利
:CN112640126B
,2024-05-17
[3]
一种二维半导体材料晶体管及其制备方法
[P].
彭雅琳
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彭雅琳
;
张广宇
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张广宇
;
杨蓉
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杨蓉
;
杨威
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杨威
;
时东霞
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时东霞
.
中国专利
:CN115621322A
,2023-01-17
[4]
包括二维半导体材料的半导体器件
[P].
李珉贤
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李珉贤
;
薛珉洙
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薛珉洙
;
赵连柱
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赵连柱
;
申铉振
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0
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0
申铉振
.
中国专利
:CN113224144A
,2021-08-06
[5]
二维材料与半导体粉体复合材料的晶体管及制备方法
[P].
苏力宏
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苏力宏
;
王波
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王波
;
黄维
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黄维
;
邹子翱
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邹子翱
;
张军平
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张军平
.
中国专利
:CN110189998B
,2019-08-30
[6]
包括二维材料的晶体管
[P].
K·K·马克西
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K·K·马克西
;
A·V·佩努玛查
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A·V·佩努玛查
;
C·H·内勒
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C·H·内勒
;
C·J·杜罗
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C·J·杜罗
;
K·P·奥布赖恩
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K·P·奥布赖恩
;
S·希瓦拉曼
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S·希瓦拉曼
;
T·A·戈萨维
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T·A·戈萨维
;
U·E·阿夫哲
论文数:
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0
U·E·阿夫哲
.
中国专利
:CN114256334A
,2022-03-29
[7]
基于二维半导体材料的薄膜晶体管及其制备方法
[P].
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机构:
孙富钦
;
王小伟
论文数:
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机构:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
王小伟
;
论文数:
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机构:
张珽
;
何小钱
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机构:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
何小钱
;
周伟凡
论文数:
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机构:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
周伟凡
.
中国专利
:CN119545866A
,2025-02-28
[8]
一种基于二维半导体材料的突触晶体管及其制备方法
[P].
杨玉超
论文数:
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杨玉超
;
朱嘉迪
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朱嘉迪
;
黄如
论文数:
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黄如
.
中国专利
:CN109473549A
,2019-03-15
[9]
基于二维半导体的固态源掺杂方法及二维半导体晶体管
[P].
姜建峰
论文数:
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机构:
北京大学
北京大学
姜建峰
;
论文数:
引用数:
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机构:
邱晨光
;
论文数:
引用数:
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机构:
彭练矛
.
中国专利
:CN115911105B
,2024-08-02
[10]
晶体管及半导体装置
[P].
余治宽
论文数:
0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
余治宽
;
洪昇晖
论文数:
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
洪昇晖
;
洪丰基
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
洪丰基
;
许文义
论文数:
0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
许文义
;
刘人诚
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0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
刘人诚
;
杨敦年
论文数:
0
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0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
杨敦年
.
中国专利
:CN220400594U
,2024-01-26
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