一种降低氧化铝薄膜紫外光学损耗的后处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310256507.9

申请日：

2013-06-25

公开(公告)号：

CN103276367A

公开(公告)日：

2013-09-04

发明(设计)人：

陶春先姜守振冯德军黄庆婕宋磊季伟

申请人：

申请人地址：

250000 山东省济南市高新区颖秀路1237号奇盛数码二期413室

IPC主分类号：

C23C1458

IPC分类号：

代理机构：

济南圣达知识产权代理有限公司 37221

代理人：

刘乃东

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-10-09	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101527523082 IPC(主分类):C23C 14/58 专利申请号:2013102565079 申请日:20130625
2017-01-18	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101745169016 IPC(主分类):C23C 14/58 专利申请号:2013102565079 申请公布日:20130904
2013-09-04	公开	公开

共 50 条

[1]

低紫外光学损耗的氧化铝薄膜的制备方法 [P].

尚淑珍 ;

赵祖欣 ;

周文煊 ;

黄俊 .

中国专利 :CN101220455A ,2008-07-16

[2]

低紫外光学损耗的光学薄膜的制备方法 [P].

陶春先 ;

尚淑珍 ;

卢忠荣 ;

赵曼彤 ;

张大伟 ;

倪争技 .

中国专利 :CN103147047A ,2013-06-12

[3]

降低氧化铝薄膜漏电流的方法 [P].

张涵夏 ;

陈彦涛 ;

薛国标 .

中国专利 :CN120350356A ,2025-07-22

[4]

一种降低氧化铝碱性的方法 [P].

尹培基 ;

曹文卓 ;

闫昭 ;

李婷 .

中国专利 :CN117361594A ,2024-01-09

[5]

一种降低氧化铝水解的生产方法 [P].

李成添 ;

涂晓颖 ;

石培仁 .

中国专利 :CN118724037A ,2024-10-01

[6]

氧化铝薄膜的制备方法 [P].

张伟丽 ;

余振 ;

朱瑞 ;

易葵 ;

刘晓凤 ;

王胭脂 ;

朱美萍 ;

邵建达 .

中国专利 :CN111270208A ,2020-06-12

[7]

一种氧化铝薄膜的制备方法 [P].

王金晓 ;

冯煜东 ;

王艺 ;

王志民 ;

赵慨 ;

速小梅 ;

王虎 ;

杨淼 .

中国专利 :CN102409293A ,2012-04-11

[8]

一种降低氧化铝产品中硅含量的方法及氧化铝产品 [P].

郑洁 ;

杨会宾 ;

齐利娟 ;

于晴 ;

杨桂丽 ;

张建强 .

中国专利 :CN119018920A ,2024-11-26

[9]

一种降低氧化铝中钾含量的方法 [P].

王家伟 ;

赵平源 .

中国专利 :CN103496728A ,2014-01-08

[10]

一种降低氧化铝陶瓷烧成温度的方法 [P].

徐时清 ;

王焕平 ;

陈金敏 ;

邓德刚 ;

赵士龙 .

中国专利 :CN101973760A ,2011-02-16

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