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低紫外光学损耗的氧化铝薄膜的制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200810033200.1
申请日
:
2008-01-29
公开(公告)号
:
CN101220455A
公开(公告)日
:
2008-07-16
发明(设计)人
:
尚淑珍
赵祖欣
周文煊
黄俊
申请人
:
申请人地址
:
200237上海市徐汇区梅陇路130号
IPC主分类号
:
C23C1408
IPC分类号
:
C23C1426
C23C1402
B08B312
C23C1454
C23C1458
代理机构
:
上海顺华专利代理有限责任公司
代理人
:
谈顺法
法律状态
:
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2011-10-26
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回 号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101200112927 IPC(主分类):C23C 14/08 专利申请号:2008100332001 公开日:20080716
2008-07-16
公开
公开
共 50 条
[1]
低紫外光学损耗的光学薄膜的制备方法
[P].
陶春先
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陶春先
;
尚淑珍
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尚淑珍
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卢忠荣
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卢忠荣
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赵曼彤
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赵曼彤
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张大伟
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张大伟
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倪争技
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倪争技
.
中国专利
:CN103147047A
,2013-06-12
[2]
一种降低氧化铝薄膜紫外光学损耗的后处理方法
[P].
陶春先
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陶春先
;
姜守振
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姜守振
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冯德军
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冯德军
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黄庆婕
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黄庆婕
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宋磊
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宋磊
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季伟
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季伟
.
中国专利
:CN103276367A
,2013-09-04
[3]
氧化铝薄膜的制备方法
[P].
张伟丽
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张伟丽
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余振
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余振
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朱瑞
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朱瑞
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易葵
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易葵
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刘晓凤
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刘晓凤
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王胭脂
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王胭脂
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朱美萍
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朱美萍
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邵建达
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邵建达
.
中国专利
:CN111270208A
,2020-06-12
[4]
氧化铝薄膜的制备方法
[P].
金润洙
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金润洙
;
安基硕
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安基硕
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李善淑
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李善淑
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郑泽模
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郑泽模
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曺源泰
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曺源泰
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成耆焕
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成耆焕
.
中国专利
:CN1675404A
,2005-09-28
[5]
多孔氧化铝薄膜的制备方法
[P].
吴昊
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吴昊
.
中国专利
:CN101608331B
,2009-12-23
[6]
一种氧化铝薄膜的制备方法
[P].
王金晓
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王金晓
;
冯煜东
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冯煜东
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王艺
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王艺
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王志民
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王志民
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赵慨
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赵慨
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速小梅
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速小梅
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王虎
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王虎
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杨淼
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杨淼
.
中国专利
:CN102409293A
,2012-04-11
[7]
氧化铝修饰的氧化锌气敏薄膜及其制备方法
[P].
陈晓晶
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陈晓晶
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张振
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张振
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周李兵
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周李兵
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张清
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张清
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贺耀宜
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贺耀宜
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张海庆
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张海庆
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杨华
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杨华
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颜培宇
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颜培宇
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郝叶军
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郝叶军
.
中国专利
:CN114622172A
,2022-06-14
[8]
有序多孔氧化铝薄膜的制备方法
[P].
李东栋
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李东栋
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姜传海
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姜传海
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李萍
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李萍
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任鑫
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任鑫
.
中国专利
:CN101104944A
,2008-01-16
[9]
用多孔氧化铝薄膜制备纳米级氧化铝颗粒的方法
[P].
王玲丽
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王玲丽
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励星星
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励星星
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吴兴龙
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吴兴龙
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沈剑沧
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沈剑沧
.
中国专利
:CN101508451B
,2009-08-19
[10]
阳极氧化的氧化铝薄膜的成型方法
[P].
黛安·玛格丽特·詹金斯
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黛安·玛格丽特·詹金斯
;
克里斯托弗·帕吉特
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克里斯托弗·帕吉特
.
中国专利
:CN1010556B
,1988-05-18
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