一种提高硅片表面平整度的抛光工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111240064.5

申请日：

2021-10-25

公开(公告)号：

CN113977438A

公开(公告)日：

2022-01-28

发明(设计)人：

殷博文张超仁曹锦伟王彦君孙晨光

申请人：

申请人地址：

214200 江苏省无锡市宜兴经济技术开发区东氿大道

IPC主分类号：

B24B2902

IPC分类号：

B24B722 B24B4900 B24B5702 H01L21304

代理机构：

苏州高专知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32474

代理人：

冷泠

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-01-28	公开	公开
2022-02-18	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 29/02 申请日:20211025

共 50 条

[1]

一种提高硅片表面粗糙度的抛光工艺 [P].

张超仁 ;

侯国荣 ;

王彦君 ;

孙晨光 ;

曹锦伟 .

中国专利 :CN113927377A ,2022-01-14

[2]

一种提高硅片平整度的抛光方法 [P].

刘畅 ;

南鑫 ;

王帅 ;

谭永麟 ;

孙晨光 ;

王彦君 .

中国专利 :CN115446726A ,2022-12-09

[3]

一种改善表面平整度的抛光方法 [P].

成子恒 ;

潘仁达 ;

张超仁 ;

黄春峰 .

中国专利 :CN115502886A ,2022-12-23

[4]

一种高平整度8英寸硅片的抛光工艺 [P].

王广勇 ;

金文明 ;

李星 ;

石明 ;

张琪 ;

韩鹏飞 ;

褚鑫 ;

王聚安 ;

吕莹 ;

孙晨光 .

中国专利 :CN110281082A ,2019-09-27

[5]

高表面平整度的蓝宝石抛光液及其抛光工艺 [P].

贡浩飞 ;

潘华平 .

中国专利 :CN108485532A ,2018-09-04

[6]

一种提高表面平整度的装置 [P].

王永齐 ;

黄琴 .

中国专利 :CN206169177U ,2017-05-17

[7]

一种提高抛光平整度的CMP抛光垫及其制备工艺 [P].

李加海 ;

杨惠明 ;

李元祥 .

中国专利 :CN118893568B ,2025-05-30

[8]

一种提高抛光平整度的CMP抛光垫及其制备工艺 [P].

李加海 ;

杨惠明 ;

李元祥 .

中国专利 :CN118893568A ,2024-11-05

[9]

一种提高型材表面平整度模具 [P].

周晓青 ;

何战 .

中国专利 :CN209829899U ,2019-12-24

[10]

用于硅片表面平整度粗抛的白垫及生产工艺 [P].

李加海 ;

杨惠明 ;

孙传东 .

中国专利 :CN121104888A ,2025-12-12

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