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一种光刻机硅片载物台温度控制系统及其控制方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201110307965.1
申请日
:
2011-10-12
公开(公告)号
:
CN102445856A
公开(公告)日
:
2012-05-09
发明(设计)人
:
朱骏
申请人
:
申请人地址
:
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号
IPC主分类号
:
G03F720
IPC分类号
:
G05D2320
代理机构
:
上海新天专利代理有限公司 31213
代理人
:
王敏杰
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2012-06-27
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101271730115 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2011103079651 申请日:20111012
2012-05-09
公开
公开
2014-12-10
授权
授权
共 50 条
[1]
一种光刻机温控硅片载物台
[P].
朱骏
论文数:
0
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0
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朱骏
;
陈力钧
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陈力钧
.
中国专利
:CN102445857B
,2012-05-09
[2]
光刻机内部温度控制系统
[P].
张琪
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机构:
新毅东(北京)科技有限公司
新毅东(北京)科技有限公司
张琪
;
符友银
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机构:
新毅东(北京)科技有限公司
新毅东(北京)科技有限公司
符友银
;
靳雪仪
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机构:
新毅东(北京)科技有限公司
新毅东(北京)科技有限公司
靳雪仪
;
陈钰思阳
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机构:
新毅东(北京)科技有限公司
新毅东(北京)科技有限公司
陈钰思阳
.
中国专利
:CN119620560A
,2025-03-14
[3]
光刻机控制系统以及控制方法
[P].
马鹏川
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机构:
上海微电子装备(集团)股份有限公司
上海微电子装备(集团)股份有限公司
马鹏川
;
吴卫军
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机构:
上海微电子装备(集团)股份有限公司
上海微电子装备(集团)股份有限公司
吴卫军
;
杨元培
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机构:
上海微电子装备(集团)股份有限公司
上海微电子装备(集团)股份有限公司
杨元培
.
中国专利
:CN115128910B
,2025-06-17
[4]
光刻机控制系统以及控制方法
[P].
马鹏川
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马鹏川
;
吴卫军
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吴卫军
;
杨元培
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杨元培
.
中国专利
:CN115128910A
,2022-09-30
[5]
光刻机控制系统和方法
[P].
王伟
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王伟
;
李蒙
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0
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李蒙
.
中国专利
:CN110874020A
,2020-03-10
[6]
光刻机的污染控制系统、方法和光刻机
[P].
王魁波
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王魁波
;
吴晓斌
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吴晓斌
;
沙鹏飞
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沙鹏飞
;
罗艳
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罗艳
;
谢婉露
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谢婉露
;
李慧
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李慧
;
韩晓泉
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0
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韩晓泉
.
中国专利
:CN114280893A
,2022-04-05
[7]
光刻机控制系统
[P].
霍志军
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霍志军
;
周权
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周权
;
潘菊凤
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潘菊凤
;
陈建民
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陈建民
.
中国专利
:CN101581886A
,2009-11-18
[8]
光刻机载物台控制方法
[P].
张琪
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机构:
新毅东(上海)科技有限公司
新毅东(上海)科技有限公司
张琪
;
符友银
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机构:
新毅东(上海)科技有限公司
新毅东(上海)科技有限公司
符友银
.
中国专利
:CN117452774A
,2024-01-26
[9]
湿度控制装置及其温度控制系统与光刻机台
[P].
骆建钢
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骆建钢
;
黄志凯
论文数:
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黄志凯
.
中国专利
:CN108240681A
,2018-07-03
[10]
一种激光光刻机控制系统及其光刻机
[P].
殷庆纵
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殷庆纵
;
张宇峰
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张宇峰
;
王栋
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王栋
.
中国专利
:CN205485277U
,2016-08-17
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