薄膜和使用该薄膜的半导体装置的制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200880017520.6
申请日
2008-05-19
公开(公告)号
CN101681835A
公开(公告)日
2010-03-24
发明(设计)人
加藤良裕 吹上纪明
申请人
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
H01L21316
IPC分类号
H01L2128 H01L21336 H01L21768 H01L218238 H01L23522 H01L27092 H01L2978 H01L29786
代理机构
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人
龙 淳
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
薄膜以及使用该薄膜的半导体装置的制造方法 [P]. 
加藤良裕 ;
吹上纪明 .
中国专利 :CN101946311A ,2011-01-12
[2]
薄膜半导体装置和该薄膜半导体装置的制造方法 [P]. 
町田晓夫 ;
藤野敏夫 ;
河野正洋 .
中国专利 :CN101150057B ,2008-03-26
[3]
薄膜半导体装置和制造薄膜半导体装置的方法 [P]. 
町田晓夫 ;
藤野敏夫 ;
河野正洋 .
中国专利 :CN101038938A ,2007-09-19
[4]
半导体装置和制造该半导体装置的方法 [P]. 
罗熙稌 ;
黄善珏 ;
金成淳 .
中国专利 :CN114388520A ,2022-04-22
[5]
半导体用粘合薄膜、及使用该薄膜的引线框和半导体装置 [P]. 
田边义行 ;
松浦秀一 .
中国专利 :CN1401720A ,2003-03-12
[6]
半导体装置和制造该半导体装置的方法 [P]. 
生田哲也 .
中国专利 :CN101465371B ,2009-06-24
[7]
薄膜半导体装置的制造方法 [P]. 
宫坂光敏 ;
小川哲也 ;
时冈秀忠 ;
佐藤行雄 ;
井上满夫 ;
笹川智广 .
中国专利 :CN1156894C ,2001-07-18
[8]
粘合薄膜和半导体装置的制造方法 [P]. 
谷口彻弥 ;
薮下谕 .
日本专利 :CN119161817A ,2024-12-20
[9]
薄膜改性组合物、使用其形成薄膜的方法、由该方法制造的半导体基板及半导体器件 [P]. 
李承铉 ;
郑在善 ;
金德铉 .
韩国专利 :CN118871613A ,2024-10-29
[10]
薄膜半导体器件和薄膜半导体器件的制造方法 [P]. 
鬼冢达也 .
中国专利 :CN100378514C ,2005-02-09