半导体器件的制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201710731384.8
申请日
2017-08-23
公开(公告)号
CN107785431A
公开(公告)日
2018-03-09
发明(设计)人
立山克郎
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01L2978
IPC分类号
H01L29423 H01L2128 H01L213065
代理机构
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
陈伟;闫剑平
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件和半导体器件的制造方法 [P]. 
甲斐徹哉 ;
笠井良夫 ;
角田弘昭 ;
萩原裕之 ;
小林英行 .
中国专利 :CN1330393A ,2002-01-09
[2]
制造半导体器件的方法 [P]. 
青木秀充 .
中国专利 :CN1253376A ,2000-05-17
[3]
制造半导体器件的方法 [P]. 
金忠培 .
中国专利 :CN101521157A ,2009-09-02
[4]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
小泽良夫 ;
田中正幸 ;
宫野清孝 ;
斋田繁彦 .
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[5]
制造半导体器件的方法 [P]. 
石川拓 .
中国专利 :CN1202727A ,1998-12-23
[6]
半导体器件的制造方法 [P]. 
中村麻树子 .
中国专利 :CN101239699A ,2008-08-13
[7]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
森门六月生 .
中国专利 :CN101132010A ,2008-02-27
[8]
制造半导体器件的方法 [P]. 
洪雨利 ;
孔德明 ;
陈志壕 ;
陈科维 ;
王英郎 ;
张宏睿 ;
曾鸿輝 .
中国专利 :CN106024617B ,2016-10-12
[9]
制造半导体器件的方法 [P]. 
林载圻 ;
金钟哲 .
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[10]
半导体器件的制造方法 [P]. 
江泽弘和 ;
宫田雅弘 .
中国专利 :CN1042777C ,1996-07-10