调节器和包括该调节器的化学机械抛光设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910079571.1

申请日：

2019-01-28

公开(公告)号：

CN110605657A

公开(公告)日：

2019-12-24

发明(设计)人：

李龙熙韩昇澈李羲宽徐钟辉

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道水原市

IPC主分类号：

B24B3700

IPC分类号：

B24B3734

代理机构：

北京铭硕知识产权代理有限公司 11286

代理人：

田野;尹淑梅

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-12-24	公开	公开
2021-03-09	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/00 申请日:20190128

共 50 条

[1]

化学机械抛光装置的调节器 [P].

蔡熙成 ;

金志郁 .

中国专利 :CN204868552U ,2015-12-16

[2]

垫调节器及化学机械抛光方法 [P].

申宪桦 ;

匡训冲 .

中国专利 :CN112743449A ,2021-05-04

[3]

化学机械抛光垫调节器及其制造方法 [P].

金信京 ;

金圣奎 ;

朴东阅 ;

金刚俊 ;

金敬真 ;

金兑炫 .

中国专利 :CN112223133A ,2021-01-15

[4]

多盘化学机械抛光衬垫调节器与方法 [P].

H·陈 ;

S-S·常 ;

J·G·方 ;

M·A·盖勒里 ;

P·D·巴特菲尔德 ;

K·周 .

中国专利 :CN105122428B ,2015-12-02

[5]

提高垫寿命的化学机械抛光垫调节器方向速度控制 [P].

Y·J·派克 .

中国专利 :CN1524027A ,2004-08-25

[6]

抛光温度调节装置和化学机械抛光设备 [P].

孟松林 ;

魏聪 ;

其他发明人请求不公开姓名 .

中国专利 :CN211589697U ,2020-09-29

[7]

化学机械抛光设备和化学机械抛光方法 [P].

唐强 .

中国专利 :CN108115553A ,2018-06-05

[8]

调节器和包括该调节器的包装机 [P].

J.A.柯恩 ;

G.L.J.文特 .

中国专利 :CN102256877A ,2011-11-23

[9]

化学机械抛光设备 [P].

李世珖 ;

金渊澈 ;

李周翰 ;

崔在光 ;

夫在弼 .

中国专利 :CN104508802A ,2015-04-08

[10]

调节器和包括该调节器的集成电路 [P].

张恩相 ;

金相亨 ;

金汉别 ;

鲁容成 ;

文荣振 ;

朴成文 ;

李承圭 .

韩国专利 :CN121165868A ,2025-12-19

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