无掩膜局域蚀刻装置、无掩膜局域蚀刻系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201220032251.4

申请日：

2012-01-31

公开(公告)号：

CN202633359U

公开(公告)日：

2012-12-26

发明(设计)人：

张陆成

申请人：

申请人地址：

414109 湖南省岳阳县麻塘镇金山村张远宝苗圃

IPC主分类号：

H01L3118

IPC分类号：

代理机构：

北京瑞恒信达知识产权代理事务所(普通合伙) 11382

代理人：

苗青盛;王凤华

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-01-11	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 31/18 申请日:20120131 授权公告日:20121226 终止日期:20210131
2012-12-26	授权	授权

共 50 条

[1]

无掩膜局域蚀刻装置、方法及系统 [P].

张陆成 .

中国专利 :CN103227234A ,2013-07-31

[2]

OLED面板掩膜板蚀刻装置 [P].

周平 ;

张少平 .

中国专利 :CN120738645B ,2025-10-31

[3]

OLED面板掩膜板蚀刻装置 [P].

周平 ;

张少平 .

中国专利 :CN120738645A ,2025-10-03

[4]

一种金属掩膜板蚀刻装置 [P].

隋鑫 ;

朱海彬 ;

尹小江 ;

胡胜坤 ;

孟辉辉 ;

赵芳芳 ;

晁亮 ;

杨志业 .

中国专利 :CN221566326U ,2024-08-20

[5]

无掩膜光刻设备 [P].

周沪宁 .

中国专利 :CN206991021U ,2018-02-09

[6]

多波长无掩膜曝光装置 [P].

张昌清 ;

李文静 ;

何少峰 ;

刘文海 .

中国专利 :CN202486497U ,2012-10-10

[7]

掩膜板和掩膜系统 [P].

方正 ;

崔贤植 ;

金熙哲 ;

李会 ;

田允允 ;

王海燕 .

中国专利 :CN203882090U ,2014-10-15

[8]

一种蚀刻掩膜喷墨直接成像系统 [P].

张琳 .

中国专利 :CN205467920U ,2016-08-17

[9]

电解式掩膜铬膜的蚀刻制程方法 [P].

唐光亚 .

中国专利 :CN1570221A ,2005-01-26

[10]

一种半蚀刻掩膜板结构 [P].

谭照明 .

中国专利 :CN212833993U ,2021-03-30

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