垂直晶体管及其形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200810002936.2
申请日
2008-01-11
公开(公告)号
CN101431100B
公开(公告)日
2009-05-13
发明(设计)人
车宣龙
申请人
申请人地址
韩国京畿道
IPC主分类号
H01L2978
IPC分类号
H01L2906 H01L2704 H01L21336 H01L21822
代理机构
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
彭久云
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
垂直晶体管及其形成方法 [P]. 
朱宏斌 ;
程卫华 ;
刘威 ;
华文宇 ;
颜丙杰 ;
刘子琛 .
中国专利 :CN118370018A ,2024-07-19
[2]
垂直功率MOSFET晶体管及其形成方法 [P]. 
伍震威 ;
周学良 ;
苏柏智 ;
柳瑞兴 .
中国专利 :CN103594469B ,2014-02-19
[3]
晶体管及其形成方法 [P]. 
邓浩 .
中国专利 :CN104022035B ,2014-09-03
[4]
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三重野文健 .
中国专利 :CN104282540A ,2015-01-14
[5]
晶体管及其形成方法 [P]. 
赵猛 .
中国专利 :CN103855020B ,2014-06-11
[6]
晶体管及其形成方法 [P]. 
刘焕新 .
中国专利 :CN105702723B ,2016-06-22
[7]
晶体管及其形成方法 [P]. 
蒋莉 ;
黎铭琦 .
中国专利 :CN102800592B ,2012-11-28
[8]
晶体管及其形成方法 [P]. 
徐建华 .
中国专利 :CN107039271A ,2017-08-11
[9]
晶体管及其形成方法 [P]. 
鲍宇 ;
平延磊 .
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[10]
晶体管及其形成方法 [P]. 
楼颖颖 .
中国专利 :CN102779843A ,2012-11-14