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等离子体处理装置及其清洗方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201510982855.3
申请日：
2015-12-24
公开(公告)号：
CN106920726A
公开(公告)日：
2017-07-04
发明(设计)人：
叶如彬
申请人：
申请人地址：
201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号
IPC主分类号：
H01J3732
IPC分类号：
C23C1644
B08B700
代理机构：
上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249
代理人：
张静洁;徐雯琼
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2018-10-12 | 授权 | 授权 |
| 2019-04-09 | 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 | 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01J 37/32 变更事项:专利权人 变更前:中微半导体设备（上海）有限公司 变更后:中微半导体设备（上海）股份有限公司 变更事项:地址 变更前:201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号 变更后:201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号 |
| 2017-07-28 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101737363863 IPC(主分类):H01J 37/32 专利申请号:2015109828553 申请日:20151224 |
| 2017-07-04 | 公开 | 公开 |