含苯并噁嗪结构的共聚物成膜树脂及其深紫外负性化学增幅型光刻胶

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910058004.4

申请日：

2009-01-04

公开(公告)号：

CN101463106B

公开(公告)日：

2009-06-24

发明(设计)人：

杨刚

申请人：

申请人地址：

610041 四川省成都市高朋大道5号

IPC主分类号：

C08F21214

IPC分类号：

C08F21232 C08F21612 C08F22240 C08F832 G03F7038

代理机构：

成都信博专利代理有限责任公司 51200

代理人：

舒启龙

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-06-24	公开	公开
2010-07-28	授权	授权
2009-08-19	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

含纳米硅深紫外负性增幅型光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 .

中国专利 :CN101974120A ,2011-02-16

[2]

化学增幅型含硅I-线紫外负性光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 .

中国专利 :CN102050908A ,2011-05-11

[3]

深紫外负性光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 ;

庄学军 .

中国专利 :CN1818781A ,2006-08-16

[4]

深紫外正性光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 ;

庄学军 .

中国专利 :CN1818782A ,2006-08-16

[5]

化学增幅型高分辨率含硅I-线紫外光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 .

中国专利 :CN101974121A ,2011-02-16

[6]

含倍半萜内酯成膜树脂及其负性248nm光刻胶 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 ;

庄学军 ;

潘新刚 .

中国专利 :CN104387524A ,2015-03-04

[7]

含倍半萜的成膜树脂及其负性248nm光刻胶 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 ;

吴俊 ;

贺宝元 .

中国专利 :CN104387512A ,2015-03-04

[8]

含纳米硅深紫外正性光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 .

中国专利 :CN101974119A ,2011-02-16

[9]

深紫外正型光刻胶成膜树脂及其制备方法 [P].

孙奇伟 ;

白钢 ;

独文倩 .

中国专利 :CN112694555A ,2021-04-23

[10]

含倍半萜内酯成膜树脂及其正性248nm光刻胶 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 ;

庄学军 ;

贺宝元 .

中国专利 :CN104592436A ,2015-05-06

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