含纳米硅深紫外负性增幅型光刻胶及其成膜树脂

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010294202.3

申请日：

2010-09-28

公开(公告)号：

CN101974120A

公开(公告)日：

2011-02-16

发明(设计)人：

冉瑞成沈吉

申请人：

申请人地址：

215311 江苏省昆山市巴城镇苇城南路1666号清华科技园创新大厦6层

IPC主分类号：

C08F21214

IPC分类号：

C08F21208 C08F22028 C08F22014 C08F22018 C08F22032 C08F842 G03F7075

代理机构：

苏州创元专利商标事务所有限公司 32103

代理人：

马明渡;王华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-12-26	授权	授权
2011-03-30	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C08F 212/14 专利申请号:2010102942023 申请日:20100928 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101061115797
2011-02-16	公开	公开
2015-07-22	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101718340945 IPC(主分类):G03F 7/075 专利号:ZL2010102942023 变更事项:专利权人变更前权利人:昆山瑞和信息材料科技有限公司变更后权利人:苏州瑞红电子化学品有限公司变更事项:地址变更前权利人:215311 江苏省昆山市巴城镇苇城南路1666号清华科技园创新大厦6层变更后权利人:215100 江苏省苏州市吴中区民丰路501号登记生效日:20150702
2014-10-08	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101705784482 IPC(主分类):G03F 7/075 专利号:ZL2010102942023 变更事项:专利权人变更前权利人:昆山西迪光电材料有限公司变更后权利人:昆山瑞和信息材料科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:215311 江苏省昆山市巴城镇苇城南路1666号清华科技园创新大厦6层变更后权利人:215311 江苏省昆山市巴城镇苇城南路1666号清华科技园创新大厦6层登记生效日:20140910

共 50 条

[1]

含纳米硅深紫外正性光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 .

中国专利 :CN101974119A ,2011-02-16

[2]

深紫外负性光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 ;

庄学军 .

中国专利 :CN1818781A ,2006-08-16

[3]

化学增幅型含硅I-线紫外负性光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 .

中国专利 :CN102050908A ,2011-05-11

[4]

深紫外正性光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 ;

庄学军 .

中国专利 :CN1818782A ,2006-08-16

[5]

含纳米硅紫外厚膜正性光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 .

中国专利 :CN101979435A ,2011-02-23

[6]

含苯并噁嗪结构的共聚物成膜树脂及其深紫外负性化学增幅型光刻胶 [P].

杨刚 .

中国专利 :CN101463106B ,2009-06-24

[7]

含硅I-线紫外正性光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 .

中国专利 :CN101974202A ,2011-02-16

[8]

含纳米硅聚酰胺紫外正性光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 .

中国专利 :CN102050946B ,2011-05-11

[9]

深紫外正型光刻胶成膜树脂及其制备方法 [P].

孙奇伟 ;

白钢 ;

独文倩 .

中国专利 :CN112694555A ,2021-04-23

[10]

化学增幅型高分辨率含硅I-线紫外光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 .

中国专利 :CN101974121A ,2011-02-16

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