化学增幅型高分辨率含硅I-线紫外光刻胶及其成膜树脂

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010294204.2

申请日：

2010-09-28

公开(公告)号：

CN101974121A

公开(公告)日：

2011-02-16

发明(设计)人：

冉瑞成沈吉

申请人：

申请人地址：

215311 江苏省昆山市巴城镇苇城南路1666号清华科技园创新大厦6层

IPC主分类号：

C08F21214

IPC分类号：

C08F22028 C08F22018 C08F21208 G03F7075

代理机构：

苏州创元专利商标事务所有限公司 32103

代理人：

马明渡;王华

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-01-01	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101683658821 IPC(主分类):C08F 212/14 专利申请号:2010102942042 申请公布日:20110216
2011-03-30	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101061115846 IPC(主分类):C08F 212/14 专利申请号:2010102942042 申请日:20100928
2011-02-16	公开	公开

共 49 条

[1]

化学增幅型含硅I-线紫外负性光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 .

中国专利 :CN102050908A ,2011-05-11

[2]

含硅I-线紫外正性光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 .

中国专利 :CN101974202A ,2011-02-16

[3]

含纳米硅深紫外负性增幅型光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 .

中国专利 :CN101974120A ,2011-02-16

[4]

深紫外负性光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 ;

庄学军 .

中国专利 :CN1818781A ,2006-08-16

[5]

深紫外正性光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 ;

庄学军 .

中国专利 :CN1818782A ,2006-08-16

[6]

含苯并噁嗪结构的共聚物成膜树脂及其深紫外负性化学增幅型光刻胶 [P].

杨刚 .

中国专利 :CN101463106B ,2009-06-24

[7]

含纳米硅深紫外正性光刻胶及其成膜树脂 [P].

冉瑞成 ;

沈吉 .

中国专利 :CN101974119A ,2011-02-16

[8]

一种高分辨率光刻胶 [P].

齐国强 ;

顾大公 ;

岳力挽 ;

李珊珊 ;

马潇 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN112925166A ,2021-06-08

[9]

用于高分辨率负性光刻胶的树脂的纯化方法和光刻胶 [P].

安杨翔 ;

张兵 ;

向文胜 ;

赵建龙 ;

杨彦 ;

张威 ;

王玉龙 ;

黄丞 .

中国专利 :CN120289699A ,2025-07-11

[10]

一种成膜树脂、化学增幅型紫外正性光刻胶及其使用方法 [P].

朱明强 ;

彭玲艳 ;

李冲 .

中国专利 :CN116462795B ,2024-04-02

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