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一种单晶硅片垂直清洗装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201921861677.9
申请日
:
2019-10-31
公开(公告)号
:
CN210995605U
公开(公告)日
:
2020-07-14
发明(设计)人
:
朱汪龙
朱玲
申请人
:
申请人地址
:
214028 江苏省无锡市新吴区景贤路52号
IPC主分类号
:
B08B312
IPC分类号
:
B08B308
H01L2167
H01L2102
代理机构
:
南京经纬专利商标代理有限公司 32200
代理人
:
曹佩佩
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-07-14
授权
授权
共 50 条
[1]
一种垂直式单晶硅片清洗槽
[P].
王全文
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0
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0
王全文
;
李鹭
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李鹭
;
杨蛟
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杨蛟
.
中国专利
:CN208450074U
,2019-02-01
[2]
单晶硅片清洗装置
[P].
朱玲
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朱玲
;
朱汪龙
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朱汪龙
;
王兰
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王兰
.
中国专利
:CN206271669U
,2017-06-20
[3]
一种单晶硅片清洗装置
[P].
陈子轩
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陈子轩
;
孔繁政
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孔繁政
;
陈亚男
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陈亚男
.
中国专利
:CN218361035U
,2023-01-24
[4]
单晶硅片清洗装置
[P].
曹建鸿
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曹建鸿
.
中国专利
:CN106955864A
,2017-07-18
[5]
一种单晶硅片清洗装置
[P].
李秀春
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李秀春
.
中国专利
:CN206838660U
,2018-01-05
[6]
一种单晶硅片超声波清洗机
[P].
王全文
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王全文
;
李鹭
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李鹭
;
杨蛟
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杨蛟
.
中国专利
:CN208538804U
,2019-02-22
[7]
一种单晶硅片的超声波清洗装置
[P].
倪云达
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倪云达
;
葛正芳
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葛正芳
;
钱大丰
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钱大丰
.
中国专利
:CN202134514U
,2012-02-01
[8]
一种单晶硅片的超声波清洗装置
[P].
李秀春
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李秀春
.
中国专利
:CN206838655U
,2018-01-05
[9]
单晶硅片清洗装置
[P].
向菊
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向菊
.
中国专利
:CN213079309U
,2021-04-30
[10]
一种超声波单晶硅片清洗槽
[P].
王全文
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王全文
;
李鹭
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李鹭
;
杨蛟
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杨蛟
.
中国专利
:CN208450075U
,2019-02-01
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