基于聚焦离子束技术深刻蚀一维光子晶体的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200510126469.0
申请日
2005-12-13
公开(公告)号
CN1983509A
公开(公告)日
2007-06-20
发明(设计)人
徐军 章蓓 张振生 代涛
申请人
申请人地址
100871北京市海淀区颐和园路5号
IPC主分类号
H01L2100
IPC分类号
H01L213065 H01L3300 H01S510 H01S522
代理机构
北京君尚知识产权代理事务所
代理人
俞达成
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
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[4]
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[5]
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[6]
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[9]
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曹蓉 ;
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[10]
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