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湿法刻蚀槽以及湿法刻蚀设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201720109655.1
申请日
:
2017-02-06
公开(公告)号
:
CN206541807U
公开(公告)日
:
2017-10-03
发明(设计)人
:
刘海亮
王鹏涛
严清涛
许非凡
申请人
:
申请人地址
:
215300 江苏省苏州市昆山市开发区前进中路167号1幢(国际大厦)1517屋
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
H01L2712
代理机构
:
北京润平知识产权代理有限公司 11283
代理人
:
李雪;李翔
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-10-03
授权
授权
共 50 条
[1]
湿法刻蚀方法以及湿法刻蚀设备
[P].
张凌越
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张凌越
;
王强
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王强
.
中国专利
:CN102437045A
,2012-05-02
[2]
湿法刻蚀设备和湿法刻蚀方法
[P].
丁向前
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丁向前
;
刘晓伟
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刘晓伟
;
刘耀
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刘耀
;
郭总杰
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郭总杰
.
中国专利
:CN104018158A
,2014-09-03
[3]
湿法刻蚀槽
[P].
李子然
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李子然
;
姚江波
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姚江波
.
中国专利
:CN109817552A
,2019-05-28
[4]
一种盖板、湿法刻蚀槽和湿法刻蚀设备
[P].
周伯柱
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周伯柱
;
郑载润
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郑载润
;
吴代吾
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吴代吾
;
王世凯
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王世凯
;
訾玉宝
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訾玉宝
;
张洪波
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张洪波
;
耿军
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耿军
;
刘剑钊
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刘剑钊
.
中国专利
:CN202363434U
,2012-08-01
[5]
湿法刻蚀清洗设备以及湿法刻蚀清洗方法
[P].
张凌越
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张凌越
;
郭国超
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郭国超
;
王强
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王强
;
杨勇
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杨勇
;
张瑞明
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张瑞明
.
中国专利
:CN102496560A
,2012-06-13
[6]
湿法刻蚀设备
[P].
董新杰
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董新杰
.
中国专利
:CN205881881U
,2017-01-11
[7]
湿法刻蚀设备
[P].
干怀渝
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机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
干怀渝
;
迟世兴
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机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
迟世兴
;
赵嘉
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机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
赵嘉
;
杜清龙
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机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
杜清龙
.
中国专利
:CN220400547U
,2024-01-26
[8]
湿法刻蚀设备
[P].
范学丽
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范学丽
;
孙文昌
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孙文昌
.
中国专利
:CN202126999U
,2012-01-25
[9]
湿法刻蚀设备
[P].
梁堰风
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梁堰风
;
杨永刚
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杨永刚
;
张丝柳
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张丝柳
;
苏界
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苏界
;
王家成
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王家成
.
中国专利
:CN215815802U
,2022-02-11
[10]
湿法刻蚀设备及湿法刻蚀方法
[P].
陆丛希
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
陆丛希
.
中国专利
:CN121149048A
,2025-12-16
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