湿法刻蚀方法以及湿法刻蚀设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110388462.1

申请日：

2011-11-29

公开(公告)号：

CN102437045A

公开(公告)日：

2012-05-02

发明(设计)人：

张凌越王强

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路818号

IPC主分类号：

H01L21308

IPC分类号：

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

郑玮

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-07-21	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101755781866 IPC(主分类):H01L 21/308 专利申请号:2011103884621 申请公布日:20120502
2014-05-21	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101582309300 IPC(主分类):H01L 21/308 专利申请号:2011103884621 申请日:20111129
2012-05-02	公开	公开
2014-06-04	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101701411002 IPC(主分类):H01L 21/308 专利申请号:2011103884621 变更事项:申请人变更前权利人:上海宏力半导体制造有限公司变更后权利人:上海华虹宏力半导体制造有限公司变更事项:地址变更前权利人:201203 上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路818号变更后权利人:201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号登记生效日:20140507

共 50 条

[1]

湿法刻蚀清洗设备以及湿法刻蚀清洗方法 [P].

张凌越 ;

郭国超 ;

王强 ;

杨勇 ;

张瑞明 .

中国专利 :CN102496560A ,2012-06-13

[2]

湿法刻蚀槽以及湿法刻蚀设备 [P].

刘海亮 ;

王鹏涛 ;

严清涛 ;

许非凡 .

中国专利 :CN206541807U ,2017-10-03

[3]

湿法刻蚀设备和湿法刻蚀方法 [P].

丁向前 ;

刘晓伟 ;

刘耀 ;

郭总杰 .

中国专利 :CN104018158A ,2014-09-03

[4]

湿法刻蚀设备及湿法刻蚀方法 [P].

陆丛希 .

中国专利 :CN121149048A ,2025-12-16

[5]

湿法刻蚀设备及湿法刻蚀方法 [P].

刘哲准 .

中国专利 :CN118352261A ,2024-07-16

[6]

湿法刻蚀设备及湿法刻蚀方法 [P].

薛大鹏 .

中国专利 :CN105742213B ,2016-07-06

[7]

湿法刻蚀系统、湿法刻蚀方法 [P].

姚嫦娲 .

中国专利 :CN103985660B ,2014-08-13

[8]

湿法刻蚀系统及湿法刻蚀方法 [P].

薛大鹏 .

中国专利 :CN106653659A ,2017-05-10

[9]

湿法刻蚀方法及湿法刻蚀装置 [P].

郝晓波 .

中国专利 :CN103606518B ,2014-02-26

[10]

湿法刻蚀设备 [P].

薛大鹏 .

中国专利 :CN104681471A ,2015-06-03

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