槽栅超结VDMOS器件及芯片

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202121154194.2
申请日
2021-05-26
公开(公告)号
CN214848642U
公开(公告)日
2021-11-23
发明(设计)人
任敏 李长泽 李泽宏 李伟聪 林泳浩
申请人
申请人地址
518000 广东省深圳市南山区桃源街道福光社区留仙大道3370号南山智园崇文园区3号楼1301
IPC主分类号
H01L2978
IPC分类号
H01L2906 H01L29423
代理机构
深圳市嘉勤知识产权代理有限公司 44651
代理人
辛鸿飞
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
槽栅超结VDMOS器件、芯片及终端设备 [P]. 
任敏 ;
李长泽 ;
李泽宏 ;
李伟聪 ;
林泳浩 .
中国专利 :CN113327984B ,2021-08-31
[2]
一种槽栅超结VDMOS器件 [P]. 
许一力 .
中国专利 :CN223007812U ,2025-06-20
[3]
超结VDMOS的制备方法及其超结VDMOS器件 [P]. 
周宏伟 ;
任文珍 ;
张园园 ;
徐西昌 .
中国专利 :CN105489500A ,2016-04-13
[4]
超结MOSFET器件及芯片 [P]. 
任敏 ;
李长泽 ;
李泽宏 ;
林泳浩 ;
李伟聪 .
中国专利 :CN113327982B ,2021-08-31
[5]
超结VDMOS器件及其制造方法 [P]. 
肖胜安 .
中国专利 :CN102157377A ,2011-08-17
[6]
制备超结VDMOS器件的方法 [P]. 
蔡小五 ;
海潮和 ;
陆江 ;
王立新 .
中国专利 :CN101515547A ,2009-08-26
[7]
一种超结VDMOS器件 [P]. 
任敏 ;
谭键文 ;
骆俊毅 ;
李泽宏 ;
张波 .
中国专利 :CN110310983A ,2019-10-08
[8]
一种超结VDMOS器件 [P]. 
任敏 ;
谭键文 ;
骆俊毅 ;
李泽宏 ;
张波 .
中国专利 :CN209963063U ,2020-01-17
[9]
一种改进栅结构的槽栅VDMOS器件 [P]. 
涂俊杰 ;
顾航 ;
高巍 ;
戴茂州 .
中国专利 :CN112802903A ,2021-05-14
[10]
超结VDMOS器件及其制备方法 [P]. 
张玉琦 ;
任文珍 ;
陆珏 ;
丛茂杰 .
中国专利 :CN118431083A ,2024-08-02