辐射敏感组合物及抗蚀图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680019062.4

申请日：

2016-03-28

公开(公告)号：

CN107430337A

公开(公告)日：

2017-12-01

发明(设计)人：

越后雅敏樋田匠佐藤隆

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F7022

IPC分类号：

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-12-01	公开	公开
2018-02-23	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/022 申请日:20160328
2020-10-30	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F 7/022 申请公布日:20171201

共 50 条

[1]

辐射敏感组合物、非晶膜和抗蚀图案形成方法 [P].

越后雅敏 ;

樋田匠 ;

佐藤隆 .

中国专利 :CN107407874A ,2017-11-28

[2]

抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

平野智之 ;

砂道智成 ;

桥本阳奈 ;

中川裕介 .

日本专利 :CN118401895A ,2024-07-26

[3]

抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

平野智之 ;

砂道智成 ;

桥本阳奈 ;

中川裕介 .

日本专利 :CN118451370A ,2024-08-06

[4]

抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法 [P].

长峰高志 ;

中村刚 .

中国专利 :CN107844031A ,2018-03-27

[5]

抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法 [P].

砂道智成 ;

中川裕介 ;

米村幸治 ;

平野智之 ;

齐藤彩 .

中国专利 :CN112445067A ,2021-03-05

[6]

抗蚀基材、抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法 [P].

樋田匠 ;

越后雅敏 ;

佐藤隆 ;

清水洋子 .

中国专利 :CN107533290B ,2018-01-02

[7]

抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

岩下勇介 ;

齐藤彩 ;

米村幸治 ;

中川裕介 .

日本专利 :CN119654597A ,2025-03-18

[8]

抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

平野智之 ;

平山文武 ;

野村架奈 ;

河野绅一 ;

中川裕介 .

中国专利 :CN112946998A ,2021-06-11

[9]

抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

高木大地 ;

中村刚 ;

板垣友祐 .

日本专利 :CN116745699B ,2024-03-22

[10]

抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法 [P].

藤崎真史 ;

土屋纯一 ;

远藤浩太朗 .

中国专利 :CN108693703B ,2018-10-23

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