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一种高频高线性GaN HEMT器件及制备方法
被引:0
申请号
:
CN202210895598.X
申请日
:
2022-07-26
公开(公告)号
:
CN115347044A
公开(公告)日
:
2022-11-15
发明(设计)人
:
马晓华
王鹏飞
宓珉瀚
陈治宏
安思瑞
周雨威
龚灿
杜翔
梁宁
窦娟
申请人
:
申请人地址
:
710071 陕西省西安市太白南路2号
IPC主分类号
:
H01L29778
IPC分类号
:
H01L2940
H01L29423
H01L21335
代理机构
:
西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230
代理人
:
勾慧敏
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-11-15
公开
公开
2022-12-02
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/778 申请日:20220726
共 50 条
[1]
GaN HEMT器件制备方法及GaN HEMT器件
[P].
李亦衡
论文数:
0
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0
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机构:
江苏能华微电子科技发展有限公司
江苏能华微电子科技发展有限公司
李亦衡
;
朱廷刚
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机构:
江苏能华微电子科技发展有限公司
江苏能华微电子科技发展有限公司
朱廷刚
;
武乐可
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机构:
江苏能华微电子科技发展有限公司
江苏能华微电子科技发展有限公司
武乐可
;
王强
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机构:
江苏能华微电子科技发展有限公司
江苏能华微电子科技发展有限公司
王强
;
黄克强
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机构:
江苏能华微电子科技发展有限公司
江苏能华微电子科技发展有限公司
黄克强
;
秦佳明
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机构:
江苏能华微电子科技发展有限公司
江苏能华微电子科技发展有限公司
秦佳明
;
魏鸿源
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机构:
江苏能华微电子科技发展有限公司
江苏能华微电子科技发展有限公司
魏鸿源
;
夏远洋
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机构:
江苏能华微电子科技发展有限公司
江苏能华微电子科技发展有限公司
夏远洋
.
中国专利
:CN116631960B
,2024-04-05
[2]
一种高线性度射频GaN基HEMT器件及其制备方法
[P].
刘志宏
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机构:
西安电子科技大学广州研究院
西安电子科技大学广州研究院
刘志宏
;
魏宇君
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机构:
西安电子科技大学广州研究院
西安电子科技大学广州研究院
魏宇君
;
惠安特
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西安电子科技大学广州研究院
西安电子科技大学广州研究院
惠安特
;
索淑怡
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机构:
西安电子科技大学广州研究院
西安电子科技大学广州研究院
索淑怡
;
冯欣
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机构:
西安电子科技大学广州研究院
西安电子科技大学广州研究院
冯欣
;
杜航海
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机构:
西安电子科技大学广州研究院
西安电子科技大学广州研究院
杜航海
;
周弘
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机构:
西安电子科技大学广州研究院
西安电子科技大学广州研究院
周弘
;
邢伟川
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西安电子科技大学广州研究院
西安电子科技大学广州研究院
邢伟川
;
张进成
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西安电子科技大学广州研究院
西安电子科技大学广州研究院
张进成
;
郝跃
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机构:
西安电子科技大学广州研究院
西安电子科技大学广州研究院
郝跃
.
中国专利
:CN119789462B
,2025-10-10
[3]
一种GaN HEMT器件的制备方法及GaN HEMT器件
[P].
张晓宇
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机构:
苏州华太电子技术股份有限公司
苏州华太电子技术股份有限公司
张晓宇
;
岳丹诚
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机构:
苏州华太电子技术股份有限公司
苏州华太电子技术股份有限公司
岳丹诚
;
李星齐
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机构:
苏州华太电子技术股份有限公司
苏州华太电子技术股份有限公司
李星齐
.
中国专利
:CN119403171A
,2025-02-07
[4]
一种高线性度射频GaN基HEMT器件及其制备方法
[P].
刘志宏
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机构:
西安电子科技大学广州研究院
西安电子科技大学广州研究院
刘志宏
;
魏宇君
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机构:
西安电子科技大学广州研究院
西安电子科技大学广州研究院
魏宇君
;
惠安特
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机构:
西安电子科技大学广州研究院
西安电子科技大学广州研究院
惠安特
;
索淑怡
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机构:
西安电子科技大学广州研究院
西安电子科技大学广州研究院
索淑怡
;
冯欣
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机构:
西安电子科技大学广州研究院
西安电子科技大学广州研究院
冯欣
;
杜航海
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机构:
西安电子科技大学广州研究院
西安电子科技大学广州研究院
杜航海
;
周弘
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机构:
西安电子科技大学广州研究院
西安电子科技大学广州研究院
周弘
;
邢伟川
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机构:
西安电子科技大学广州研究院
西安电子科技大学广州研究院
邢伟川
;
张进成
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机构:
西安电子科技大学广州研究院
西安电子科技大学广州研究院
张进成
;
郝跃
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机构:
西安电子科技大学广州研究院
西安电子科技大学广州研究院
郝跃
.
中国专利
:CN119789462A
,2025-04-08
[5]
一种GaN HEMT器件的制备方法及GaN HEMT器件
[P].
张晓宇
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机构:
苏州华太电子技术股份有限公司
苏州华太电子技术股份有限公司
张晓宇
;
岳丹诚
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机构:
苏州华太电子技术股份有限公司
苏州华太电子技术股份有限公司
岳丹诚
;
李星齐
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机构:
苏州华太电子技术股份有限公司
苏州华太电子技术股份有限公司
李星齐
.
中国专利
:CN119403171B
,2025-07-22
[6]
一种高散热柔性GaN HEMT器件制备方法及高散热柔性GaN HEMT器件
[P].
杨战武
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机构:
红与蓝半导体(佛山)有限公司
红与蓝半导体(佛山)有限公司
杨战武
;
蒋忠伟
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机构:
红与蓝半导体(佛山)有限公司
红与蓝半导体(佛山)有限公司
蒋忠伟
;
刘新科
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机构:
红与蓝半导体(佛山)有限公司
红与蓝半导体(佛山)有限公司
刘新科
.
中国专利
:CN118315277B
,2024-10-25
[7]
一种高散热柔性GaN HEMT器件制备方法及高散热柔性GaN HEMT器件
[P].
杨战武
论文数:
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机构:
红与蓝半导体(佛山)有限公司
红与蓝半导体(佛山)有限公司
杨战武
;
蒋忠伟
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机构:
红与蓝半导体(佛山)有限公司
红与蓝半导体(佛山)有限公司
蒋忠伟
;
刘新科
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机构:
红与蓝半导体(佛山)有限公司
红与蓝半导体(佛山)有限公司
刘新科
.
中国专利
:CN118315277A
,2024-07-09
[8]
一种GaN HEMT器件及制备方法
[P].
廖龙忠
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廖龙忠
;
谭永亮
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谭永亮
;
高渊
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高渊
;
胡泽先
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胡泽先
;
付兴中
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付兴中
;
张力江
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张力江
.
中国专利
:CN113871466A
,2021-12-31
[9]
一种高线性HEMT器件及其制备方法
[P].
郑雪峰
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郑雪峰
;
唐振凌
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唐振凌
;
马晓华
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马晓华
;
马佩军
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马佩军
;
郝跃
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郝跃
.
中国专利
:CN111668303A
,2020-09-15
[10]
一种高耐压的GaN基HEMT器件及其制备方法
[P].
王洪
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王洪
;
周昀璐
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周昀璐
;
高升
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高升
.
中国专利
:CN113725286A
,2021-11-30
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