掩模板及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810118177.6

申请日：

2008-08-13

公开(公告)号：

CN101650526B

公开(公告)日：

2010-02-17

发明(设计)人：

朴云峰朴春培秦纬王威

申请人：

申请人地址：

100176 北京市经济技术开发区西环中路8号

IPC主分类号：

G03F132

IPC分类号：

H01L2100

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205

代理人：

刘芳

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-07-15	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101717789722 IPC(主分类):G03F 1/32 专利号:ZL2008101181776 变更事项:专利权人变更前权利人:北京京东方光电科技有限公司变更后权利人:京东方科技集团股份有限公司变更事项:地址变更前权利人:100176 北京市经济技术开发区西环中路8号变更后权利人:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号变更事项:专利权人变更前权利人:无变更后权利人:北京京东方光电科技有限公司登记生效日:20150624
2012-05-30	授权	授权
2010-04-21	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101000981243 IPC(主分类):G03F 1/14 专利申请号:2008101181776 申请日:20080813
2010-02-17	公开	公开
2020-12-08	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):G03F 1/32 登记生效日:20201125 变更事项:专利权人变更前权利人:京东方科技集团股份有限公司变更后权利人:高创（苏州）电子有限公司变更事项:地址变更前权利人:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号变更后权利人:215200 江苏省苏州市吴江经济技术开发区中山北路1700号变更事项:专利权人变更前权利人:北京京东方光电科技有限公司变更后权利人:京东方科技集团股份有限公司

共 50 条

[1]

一种掩模板及其制造方法 [P].

曲连杰 ;

郭建 .

中国专利 :CN102645839A ,2012-08-22

[2]

掩模板及其制备方法 [P].

郝金刚 ;

彭志龙 ;

朴春培 ;

王威 .

中国专利 :CN101738846B ,2010-06-16

[3]

可调节透过率的掩模板、制造方法及其掩模方法 [P].

周伟峰 ;

郭建 ;

明星 .

中国专利 :CN101487972A ,2009-07-22

[4]

掩模板及其制备方法 [P].

刘添彪 ;

林岳明 .

中国专利 :CN117420722A ,2024-01-19

[5]

掩模板及其制备方法 [P].

刘添彪 ;

林岳明 .

中国专利 :CN117369208A ,2024-01-09

[6]

一种半色调掩模板及其制造方法 [P].

罗丽平 ;

贠向南 ;

许朝钦 ;

金基用 ;

周子卿 .

中国专利 :CN103034045A ,2013-04-10

[7]

空白掩模及其制造方法 [P].

金泰完 ;

申仁均 ;

李亨株 .

韩国专利 :CN118818887A ,2024-10-22

[8]

相移掩模及其制造方法 [P].

裵相满 .

中国专利 :CN1162766A ,1997-10-22

[9]

掩模板及制造阵列基板的方法 [P].

邓检 ;

李晓坤 ;

木素真 .

中国专利 :CN102707575B ,2012-10-03

[10]

掩模板及其制备方法、曝光设备 [P].

王曼 .

中国专利 :CN104849966A ,2015-08-19

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