掩模板及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810226814.1

申请日：

2008-11-17

公开(公告)号：

CN101738846B

公开(公告)日：

2010-06-16

发明(设计)人：

郝金刚彭志龙朴春培王威

申请人：

申请人地址：

100176 北京市经济技术开发区西环中路8号

IPC主分类号：

G03F132

IPC分类号：

H01L2184

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205

代理人：

刘芳

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-07-29	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101718505292 IPC(主分类):G03F 1/32 专利号:ZL2008102268141 变更事项:专利权人变更前权利人:北京京东方光电科技有限公司变更后权利人:京东方科技集团股份有限公司变更事项:地址变更前权利人:100176 北京市经济技术开发区西环中路8号变更后权利人:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号变更事项:专利权人变更前权利人:无变更后权利人:北京京东方光电科技有限公司登记生效日:20150706
2010-09-01	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101005271436 IPC(主分类):G03F 1/00 专利申请号:2008102268141 申请日:20081117
2012-02-29	授权	授权
2020-12-11	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):G03F 1/32 登记生效日:20201201 变更事项:专利权人变更前权利人:京东方科技集团股份有限公司变更后权利人:高创（苏州）电子有限公司变更事项:地址变更前权利人:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号变更后权利人:215200 江苏省苏州市吴江经济技术开发区中山北路1700号变更事项:专利权人变更前权利人:北京京东方光电科技有限公司变更后权利人:京东方科技集团股份有限公司
2010-06-16	公开	公开

共 50 条

[1]

掩模板及其制造方法 [P].

朴云峰 ;

朴春培 ;

秦纬 ;

王威 .

中国专利 :CN101650526B ,2010-02-17

[2]

掩模板及其制备方法 [P].

刘添彪 ;

林岳明 .

中国专利 :CN117420722A ,2024-01-19

[3]

掩模板及其制备方法 [P].

刘添彪 ;

林岳明 .

中国专利 :CN117369208A ,2024-01-09

[4]

一种掩模板及其制造方法 [P].

曲连杰 ;

郭建 .

中国专利 :CN102645839A ,2012-08-22

[5]

掩模板及其制备方法、曝光设备 [P].

王曼 .

中国专利 :CN104849966A ,2015-08-19

[6]

超表面信息复用掩模板系统及其制备方法 [P].

郑国兴 ;

李嘉鑫 ;

李子乐 ;

单欣 ;

李仲阳 .

中国专利 :CN110989286A ,2020-04-10

[7]

掩模板、阵列基板及其制备方法、显示装置 [P].

吴洪江 .

中国专利 :CN104267580A ,2015-01-07

[8]

蒋顺 ;

常曙光 ;

马骏 ;

袁剑峰 ;

王志鹏 ;

荆常营 .

中国专利 :CN101650525A ,2010-02-17

[9]

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

贾志龙 .

中国专利 :CN222636484U ,2025-03-18

[10]

蒋顺 ;

常曙光 ;

马骏 ;

袁剑峰 ;

王志鹏 ;

荆常营 .

中国专利 :CN201392450Y ,2010-01-27

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