超表面信息复用掩模板系统及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911092866.9

申请日：

2019-11-11

公开(公告)号：

CN110989286A

公开(公告)日：

2020-04-10

发明(设计)人：

郑国兴李嘉鑫李子乐单欣李仲阳

申请人：

申请人地址：

430072 湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学

IPC主分类号：

G03F138

IPC分类号：

代理机构：

武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222

代理人：

艾小倩

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-04-10	公开	公开
2021-05-04	授权	授权
2020-05-05	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/38 申请日:20191111

共 50 条

[1]

掩模板及其制备方法 [P].

刘添彪 ;

林岳明 .

中国专利 :CN117420722A ,2024-01-19

[2]

掩模板及其制备方法 [P].

刘添彪 ;

林岳明 .

中国专利 :CN117369208A ,2024-01-09

[3]

掩模板及其制备方法 [P].

郝金刚 ;

彭志龙 ;

朴春培 ;

王威 .

中国专利 :CN101738846B ,2010-06-16

[4]

一种多重信息复用超表面及其设计方法 [P].

李子乐 ;

郑国兴 ;

李仲阳 ;

付娆 ;

邓联贵 ;

邓娟 ;

戴琦 .

中国专利 :CN111175855B ,2020-05-19

[5]

掩模板及其制备方法、曝光设备 [P].

王曼 .

中国专利 :CN104849966A ,2015-08-19

[6]

超表面和超表面制备方法 [P].

罗先刚 ;

康同同 ;

蒲明博 ;

张飞 ;

张泰铭 ;

李雄 ;

马晓亮 .

中国专利 :CN120028889A ,2025-05-23

[7]

基于超表面阵列结构的灰度掩模复用技术 [P].

付娆 ;

郑国兴 ;

李子乐 ;

李仲阳 .

中国专利 :CN110597022A ,2019-12-20

[8]

掩模板及其制造方法 [P].

朴云峰 ;

朴春培 ;

秦纬 ;

王威 .

中国专利 :CN101650526B ,2010-02-17

[9]

超表面结构及其制备方法、超表面器件 [P].

娄菁 ;

张泽琰 ;

黄崟东 ;

杨涛 ;

詹浩苏 ;

闵力 .

中国专利 :CN120490019A ,2025-08-15

[10]

超表面偏振掩模版及基于超表面偏振掩模版的光刻方法 [P].

岳夫永 ;

李相平 .

中国专利 :CN120559941A ,2025-08-29

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