掩模板及其制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202311493389.3
申请日
2023-11-09
公开(公告)号
CN117369208A
公开(公告)日
2024-01-09
发明(设计)人
刘添彪 林岳明
申请人
上海传芯半导体有限公司
申请人地址
200000 上海市浦东新区临港新片区沧海路2685号
IPC主分类号
G03F1/26
IPC分类号
代理机构
上海思捷知识产权代理有限公司 31295
代理人
朱笑宇
法律状态
公开
国省代码
浙江省 衢州市
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共 50 条
[1]
掩模板及其制备方法 [P]. 
刘添彪 ;
林岳明 .
中国专利 :CN117369207A ,2024-01-09
[2]
掩模板及其制备方法 [P]. 
刘添彪 ;
林岳明 .
中国专利 :CN117420722A ,2024-01-19
[3]
掩模板及其制备方法 [P]. 
郝金刚 ;
彭志龙 ;
朴春培 ;
王威 .
中国专利 :CN101738846B ,2010-06-16
[4]
掩模板及其制备方法、曝光设备 [P]. 
王曼 .
中国专利 :CN104849966A ,2015-08-19
[5]
掩模板及其制造方法 [P]. 
朴云峰 ;
朴春培 ;
秦纬 ;
王威 .
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[6]
可调节透过率的掩模板、制造方法及其掩模方法 [P]. 
周伟峰 ;
郭建 ;
明星 .
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[7]
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铃木修 ;
赤川裕之 ;
田边胜 ;
川口厚 ;
石桥直纯 .
中国专利 :CN1749851A ,2006-03-22
[8]
超表面信息复用掩模板系统及其制备方法 [P]. 
郑国兴 ;
李嘉鑫 ;
李子乐 ;
单欣 ;
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[9]
掩模板 [P]. 
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
贾志龙 .
中国专利 :CN222636484U ,2025-03-18
[10]
掩模板 [P]. 
于航 ;
张锋 .
中国专利 :CN202563241U ,2012-11-28