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掩模板及其制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202311493389.3
申请日
:
2023-11-09
公开(公告)号
:
CN117369208A
公开(公告)日
:
2024-01-09
发明(设计)人
:
刘添彪
林岳明
申请人
:
上海传芯半导体有限公司
申请人地址
:
200000 上海市浦东新区临港新片区沧海路2685号
IPC主分类号
:
G03F1/26
IPC分类号
:
代理机构
:
上海思捷知识产权代理有限公司 31295
代理人
:
朱笑宇
法律状态
:
公开
国省代码
:
浙江省 衢州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-01-09
公开
公开
2024-01-26
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/26申请日:20231109
共 50 条
[1]
掩模板及其制备方法
[P].
刘添彪
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
上海传芯半导体有限公司
上海传芯半导体有限公司
刘添彪
;
林岳明
论文数:
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0
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0
机构:
上海传芯半导体有限公司
上海传芯半导体有限公司
林岳明
.
中国专利
:CN117369207A
,2024-01-09
[2]
掩模板及其制备方法
[P].
刘添彪
论文数:
0
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0
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0
机构:
上海传芯半导体有限公司
上海传芯半导体有限公司
刘添彪
;
林岳明
论文数:
0
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0
机构:
上海传芯半导体有限公司
上海传芯半导体有限公司
林岳明
.
中国专利
:CN117420722A
,2024-01-19
[3]
掩模板及其制备方法
[P].
郝金刚
论文数:
0
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0
郝金刚
;
彭志龙
论文数:
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彭志龙
;
朴春培
论文数:
0
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0
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朴春培
;
王威
论文数:
0
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0
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0
王威
.
中国专利
:CN101738846B
,2010-06-16
[4]
掩模板及其制备方法、曝光设备
[P].
王曼
论文数:
0
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0
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0
王曼
.
中国专利
:CN104849966A
,2015-08-19
[5]
掩模板及其制造方法
[P].
朴云峰
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朴云峰
;
朴春培
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朴春培
;
秦纬
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秦纬
;
王威
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0
王威
.
中国专利
:CN101650526B
,2010-02-17
[6]
可调节透过率的掩模板、制造方法及其掩模方法
[P].
周伟峰
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周伟峰
;
郭建
论文数:
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郭建
;
明星
论文数:
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0
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0
明星
.
中国专利
:CN101487972A
,2009-07-22
[7]
掩模板提供系统、掩模板、掩模板透明基片的制造方法
[P].
铃木修
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铃木修
;
赤川裕之
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赤川裕之
;
田边胜
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田边胜
;
川口厚
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川口厚
;
石桥直纯
论文数:
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石桥直纯
.
中国专利
:CN1749851A
,2006-03-22
[8]
超表面信息复用掩模板系统及其制备方法
[P].
郑国兴
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0
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0
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郑国兴
;
李嘉鑫
论文数:
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李嘉鑫
;
李子乐
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李子乐
;
单欣
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单欣
;
李仲阳
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0
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李仲阳
.
中国专利
:CN110989286A
,2020-04-10
[9]
掩模板
[P].
请求不公布姓名
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0
引用数:
0
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机构:
本源量子计算科技(合肥)股份有限公司
本源量子计算科技(合肥)股份有限公司
请求不公布姓名
;
请求不公布姓名
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机构:
本源量子计算科技(合肥)股份有限公司
本源量子计算科技(合肥)股份有限公司
请求不公布姓名
;
贾志龙
论文数:
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机构:
本源量子计算科技(合肥)股份有限公司
本源量子计算科技(合肥)股份有限公司
贾志龙
.
中国专利
:CN222636484U
,2025-03-18
[10]
掩模板
[P].
于航
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于航
;
张锋
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0
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0
张锋
.
中国专利
:CN202563241U
,2012-11-28
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