湿式蚀刻方法和蚀刻液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110075293.X

申请日：

2016-06-22

公开(公告)号：

CN112921320A

公开(公告)日：

2021-06-08

发明(设计)人：

八尾章史山内邦裕藤原昌生宫崎达夫

申请人：

申请人地址：

日本山口县

IPC主分类号：

C23F110

IPC分类号：

C23F102 C23F144 H01L21306 H01L21311 H01L213213

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-06-08	公开	公开
2021-06-25	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23F 1/10 申请日:20160622

共 50 条

[1]

湿式蚀刻方法和蚀刻液 [P].

八尾章史 ;

山内邦裕 ;

藤原昌生 ;

宫崎达夫 .

中国专利 :CN107533971A ,2018-01-02

[2]

蚀刻液和蚀刻方法 [P].

吴豪旭 .

中国专利 :CN113529085A ,2021-10-22

[3]

蚀刻方法和蚀刻液 [P].

石川诚 ;

鎌田浩史 .

中国专利 :CN1946877A ,2007-04-11

[4]

硅蚀刻液和蚀刻方法 [P].

藤音喜子 ;

外赤隆二 .

中国专利 :CN102576674A ,2012-07-11

[5]

硅蚀刻液和蚀刻方法 [P].

矢口和义 ;

外赤隆二 .

中国专利 :CN102027579B ,2011-04-20

[6]

硅蚀刻液和蚀刻方法 [P].

矢口和义 ;

外赤隆二 .

中国专利 :CN102113098A ,2011-06-29

[7]

硅蚀刻液和蚀刻方法 [P].

矢口和义 ;

外赤隆二 .

中国专利 :CN101884095A ,2010-11-10

[8]

湿蚀刻装置和湿蚀刻方法 [P].

绪方正一 ;

菅长大辅 .

中国专利 :CN102473627B ,2012-05-23

[9]

蚀刻液的再生方法、蚀刻方法和蚀刻系统 [P].

伊豆田信彦 ;

村田贡 .

中国专利 :CN100336182C ,2004-05-12

[10]

蚀刻液、该蚀刻液的制造方法和使用该蚀刻液的蚀刻方法 [P].

河野良 ;

加藤胜 .

中国专利 :CN103132078A ,2013-06-05

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