抗反射硬掩膜组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810796829.5

申请日：

2018-07-19

公开(公告)号：

CN110361931B

公开(公告)日：

2019-10-22

发明(设计)人：

崔相俊

申请人：

申请人地址：

361027 福建省厦门市海沧区东孚镇山边路389号

IPC主分类号：

G03F7004

IPC分类号：

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

乐洪咏;朱黎明

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-12-17	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移 IPC(主分类):G03F 7/004 登记生效日:20211203 变更事项:申请人变更前权利人:HNS股份有限公司变更后权利人:厦门恒坤新材料科技股份有限公司变更事项:地址变更前权利人:韩国京畿道变更后权利人:361027 福建省厦门市海沧区东孚镇山边路389号变更事项:申请人变更前权利人:厦门恒坤新材料科技股份有限公司
2019-10-22	公开	公开
2019-11-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/004 申请日:20180719
2022-08-05	授权	授权

共 50 条

[1]

抗反射用硬掩模组合物 [P].

崔相俊 ;

金完郁 .

中国专利 :CN111458981A ,2020-07-28

[2]

抗反射用硬掩模组合物 [P].

崔相俊 ;

金完郁 .

韩国专利 :CN111458981B ,2024-02-02

[3]

抗反射硬掩膜及其应用 [P].

K·巴比驰 ;

E·黄 ;

A·P·马赫罗瓦拉 ;

D·R·梅德罗斯 ;

D·皮菲福尔 ;

K·坦姆普勒 .

中国专利 :CN1585097A ,2005-02-23

[4]

硬掩膜组合物和使用硬掩膜组合物形成图案的方法 [P].

南沇希 ;

金惠廷 ;

金相均 ;

金瑆焕 ;

金润俊 ;

文俊怜 ;

宋炫知 .

中国专利 :CN104749880B ,2015-07-01

[5]

金属硬掩膜组合物 [P].

D·王 ;

J·孙 ;

P·特雷弗纳斯 ;

K·M·奥康奈尔 .

中国专利 :CN103365085A ,2013-10-23

[6]

硬掩膜组合物和硬掩膜及形成图案的方法 [P].

王静 ;

肖楠 ;

宋里千 .

中国专利 :CN111290216B ,2020-06-16

[7]

硬掩膜组合物和硬掩膜及形成图案的方法 [P].

王静 ;

肖楠 ;

宋里千 .

中国专利 :CN111240153B ,2020-06-05

[8]

用于旋涂抗反射涂层/硬掩膜材料的含硅组合物 [P].

M·安耶洛普洛斯 ;

黄武松 ;

A·P·马霍罗维拉 ;

W·莫罗 ;

D·法伊弗 ;

R·苏恩雅库马兰 .

中国专利 :CN1619415A ,2005-05-25

[9]

硬掩膜组合物、硬掩膜层以及图案形成方法 [P].

林栽范 .

中国专利 :CN114424122A ,2022-04-29

[10]

硬掩膜组合物、硬掩膜层以及图案形成方法 [P].

林栽范 .

韩国专利 :CN114424122B ,2025-12-12

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