用于旋涂抗反射涂层/硬掩膜材料的含硅组合物

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专利类型
发明
申请号
CN200410080378.3
申请日
2004-09-29
公开(公告)号
CN1619415A
公开(公告)日
2005-05-25
发明(设计)人
M·安耶洛普洛斯 黄武松 A·P·马霍罗维拉 W·莫罗 D·法伊弗 R·苏恩雅库马兰
申请人
申请人地址
美国纽约
IPC主分类号
G03F100
IPC分类号
G03F720 G03F700
代理机构
北京市中咨律师事务所
代理人
林柏楠;刘金辉
法律状态
专利申请权、专利权的转移
国省代码
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共 50 条
[1]
抗反射硬掩膜组合物 [P]. 
崔相俊 .
中国专利 :CN110361931B ,2019-10-22
[2]
作为硬掩模层的抗反射含硅组合物 [P]. 
M·安杰洛波洛斯 ;
A·阿里拉姆 ;
C·R·瓜里涅里 ;
黄武松 ;
R·夸昂 ;
W·M·莫罗 .
中国专利 :CN100339213C ,2005-07-13
[3]
旋涂硬掩膜材料 [P]. 
亚历克斯·菲利普·格雷厄姆·罗宾逊 ;
安德烈亚斯·弗罗姆霍尔德 ;
艾伦·布朗 ;
汤姆·拉达 .
中国专利 :CN107207259A ,2017-09-26
[4]
抗反射涂层液组合物及利用此的抗反射涂层膜 [P]. 
李昇勋 ;
李昇炫 ;
咸庆国 .
中国专利 :CN108473792A ,2018-08-31
[5]
硬掩膜组合物和使用硬掩膜组合物形成图案的方法 [P]. 
南沇希 ;
金惠廷 ;
金相均 ;
金瑆焕 ;
金润俊 ;
文俊怜 ;
宋炫知 .
中国专利 :CN104749880B ,2015-07-01
[6]
具有改善的热稳定性可用作硬掩膜的含旋涂式无机氧化物的组合物和填充材料 [P]. 
姚晖蓉 ;
赵俊衍 ;
M·D·拉曼 .
中国专利 :CN111051570B ,2020-04-21
[7]
用于形成抗反射涂层的组合物 [P]. 
平山拓 ;
山田知孝 ;
川名大助 ;
田村弘毅 ;
佐藤和史 .
中国专利 :CN1720485A ,2006-01-11
[8]
用于形成抗反射涂层的组合物 [P]. 
平山拓 ;
山田知孝 ;
川名大助 ;
田村弘毅 ;
佐藤和史 .
中国专利 :CN1782872A ,2006-06-07
[9]
制备顶部抗反射膜的组合物、顶部抗反射膜和含氟组合物 [P]. 
李永斌 .
中国专利 :CN114035405B ,2022-02-11
[10]
有机抗反射涂层聚合物、含该聚合物的抗反射涂层组合物及其制备方法 [P]. 
洪圣恩 ;
郑旼镐 ;
郑载昌 ;
李根守 ;
白基镐 .
中国专利 :CN1185268C ,2002-01-16