旋涂硬掩膜材料

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201580054194.6

申请日：

2015-12-04

公开(公告)号：

CN107207259A

公开(公告)日：

2017-09-26

发明(设计)人：

亚历克斯·菲利普·格雷厄姆·罗宾逊安德烈亚斯·弗罗姆霍尔德艾伦·布朗汤姆·拉达

申请人：

申请人地址：

英国伯明翰

IPC主分类号：

C01B32156

IPC分类号：

C07C69616 H01L21308 B05D302 B82Y3000

代理机构：

北京安信方达知识产权代理有限公司 11262

代理人：

卓晓曦;武晶晶

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-12-06	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C01B 32/156 申请公布日:20170926
2017-10-27	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C01B 32/156 申请日:20151204
2017-09-26	公开	公开

共 50 条

[1]

旋涂硬掩模材料 [P].

安德烈亚什·弗罗姆霍尔德 ;

亚历克斯·鲁滨逊 ;

耶德萨达·马尼安姆 .

中国专利 :CN104159956A ,2014-11-19

[2]

用于旋涂抗反射涂层/硬掩膜材料的含硅组合物 [P].

M·安耶洛普洛斯 ;

黄武松 ;

A·P·马霍罗维拉 ;

W·莫罗 ;

D·法伊弗 ;

R·苏恩雅库马兰 .

中国专利 :CN1619415A ,2005-05-25

[3]

富冈健太 ;

所司悟 .

中国专利 :CN101224647B ,2008-07-23

[4]

钌硬掩膜方法 [P].

陈志英 ;

阿洛科·兰詹 ;

彼得·文特泽克 .

中国专利 :CN112385015A ,2021-02-19

[5]

一种硬掩膜板的制备方法及硬掩膜板 [P].

陈鹏 ;

梁锦旋 .

中国专利 :CN118151485A ,2024-06-07

[6]

抗反射硬掩膜组合物 [P].

崔相俊 .

中国专利 :CN110361931B ,2019-10-22

[7]

硬涂膜及其制造方法 [P].

铃木刚生 ;

饭尾成博 ;

猪野贵士 ;

杉山祐介 ;

吉田靖晃 ;

高桥拓也 ;

关口俊司 .

中国专利 :CN112469564A ,2021-03-09

[8]

硬涂层形成用组合物、硬涂膜的制备方法及利用该方法制备的硬涂膜 [P].

安钟南 ;

高秉瑄 ;

张太硕 ;

朴尽秀 ;

尹浩哲 .

中国专利 :CN110857377A ,2020-03-03

[9]

硬涂层形成用组合物、硬涂膜的制备方法及利用该方法制备的硬涂膜 [P].

安钟南 ;

高秉瑄 ;

朴尽秀 ;

张太硕 ;

尹浩哲 .

中国专利 :CN110835478B ,2020-02-25

[10]

反应性离子蚀刻用掩膜材料、掩膜以及干蚀刻方法 [P].

大川秀一 ;

服部一博 .

中国专利 :CN1784510A ,2006-06-07

← 1 2 3 4 5 →