一种等离子体刻蚀的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810604623.8

申请日：

2018-06-13

公开(公告)号：

CN108847390A

公开(公告)日：

2018-11-20

发明(设计)人：

刘庆曾林华任昱吕煜坤朱骏张旭升

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号

IPC主分类号：

H01L213065

IPC分类号：

H01J3732

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

智云

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-12-14	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/3065 申请日:20180613
2018-11-20	公开	公开
2021-04-02	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体刻蚀机台 [P].

张海洋 ;

张城龙 .

中国专利 :CN203895414U ,2014-10-22

[2]

等离子体刻蚀机 [P].

伍波 ;

张勇 ;

李果山 .

中国专利 :CN201194232Y ,2009-02-11

[3]

等离子体刻蚀机 [P].

刘波 ;

单书珊 ;

乔彦彬 ;

李建强 ;

陈燕宁 ;

张海峰 .

中国专利 :CN208444807U ,2019-01-29

[4]

等离子体刻蚀机 [P].

邱勇 ;

刘海洋 ;

李娜 ;

王铖熠 ;

侯永刚 ;

陈兆超 ;

胡冬冬 ;

许开东 .

中国专利 :CN111383888A ,2020-07-07

[5]

等离子体刻蚀机 [P].

王长梗 .

中国专利 :CN306033696S ,2020-09-04

[6]

等离子体刻蚀装置及等离子体刻蚀方法 [P].

刘东升 ;

吕煜坤 ;

朱骏 ;

张旭升 .

中国专利 :CN105161395A ,2015-12-16

[7]

等离子体刻蚀装置及其等离子体刻蚀方法 [P].

周亚勇 ;

罗林 ;

刘家桦 .

中国专利 :CN109256316A ,2019-01-22

[8]

等离子体刻蚀装置和等离子体刻蚀方法 [P].

黄啟伟 ;

柳波 ;

高君 ;

张家赫 ;

刘彦伟 .

中国专利 :CN121096838A ,2025-12-09

[9]

一种等离子体刻蚀机 [P].

缪国芳 ;

王志宝 ;

谢贤清 .

中国专利 :CN204391038U ,2015-06-10

[10]

一种约束装置、等离子体刻蚀装置 [P].

冯太永 ;

李二雷 .

中国专利 :CN223612363U ,2025-11-28

← 1 2 3 4 5 →