用于在碳注入期间延长离子源寿命和改善离子源性能的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310243476.3

申请日：

2013-06-19

公开(公告)号：

CN103578902A

公开(公告)日：

2014-02-12

发明(设计)人：

A.K.辛哈 L.A.布朗 S.坎珀 N.J.巴索姆 D.斯波勒德

申请人：

申请人地址：

美国康涅狄格州

IPC主分类号：

H01J37317

IPC分类号：

H01J3708

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：

张萍;李炳爱

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-02-12	公开	公开
2017-05-17	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101751424707 IPC(主分类):H01J 37/317 专利申请号:2013102434763 申请公布日:20140212
2015-05-27	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101611352383 IPC(主分类):H01J 37/317 专利申请号:2013102434763 申请日:20130619

共 50 条

[1]

用于在碳注入期间延长离子源寿命和改善离子源性能的组合物 [P].

A.K.辛哈 ;

L.A.布朗 ;

S.坎珀 .

中国专利 :CN103515173B ,2014-01-15

[2]

延长离子源寿命的方法 [P].

A.辛哈 ;

L.A.布朗 .

中国专利 :CN103189956A ,2013-07-03

[3]

离子源电弧室、离子源及离子注入设备 [P].

林纪光 .

中国专利 :CN223527118U ,2025-11-07

[4]

含有锌离子源、亚锡离子源和氟离子源的口腔组合物 [P].

卡维塔·韦米谢蒂 ;

利尼·弗鲁热 ;

迈克尔·普伦奇佩 .

中国专利 :CN106470737A ,2017-03-01

[5]

离子注入机的离子源 [P].

简志宏 ;

王振辉 .

中国专利 :CN201478255U ,2010-05-19

[6]

用于离子源组件清洗的方法 [P].

A.辛哈 ;

S.M.坎珀 ;

L.A.布朗 .

中国专利 :CN102549705A ,2012-07-04

[7]

一种用于碳离子注入工艺的离子源装置 [P].

肖志强 ;

刘金涛 ;

关天祺 ;

肖嘉星 ;

王振辉 ;

雷晓刚 ;

郑皓文 ;

侯爽 ;

张朋 ;

孙世豪 ;

张彦彬 ;

张林凯 ;

王亚 .

中国专利 :CN216528738U ,2022-05-13

[8]

离子源及其清洁方法 [P].

足立昌和 ;

平井裕也 ;

谷口智哉 .

中国专利 :CN111640639A ,2020-09-08

[9]

离子源及其清洁方法 [P].

足立昌和 ;

平井裕也 ;

谷口智哉 .

日本专利 :CN111640639B ,2024-03-22

[10]

离子源清洁方法及其装置 [P].

科斯特尔·拜洛 ;

奎格·R·钱尼 ;

艾利克·R·科布 ;

本雄·具 ;

威尔汉·P·普拉托 .

中国专利 :CN102113094A ,2011-06-29

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