用于减少短沟道效应的凹陷沟道快闪架构

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专利类型
发明
申请号
CN200480029724.3
申请日
2004-09-16
公开(公告)号
CN1868069A
公开(公告)日
2006-11-22
发明(设计)人
W·郑 M·伦道夫
申请人
申请人地址
美国加利福尼亚州
IPC主分类号
H01L29788
IPC分类号
H01L29792
代理机构
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人
戈泊;程伟
法律状态
发明专利申请公布后的驳回
国省代码
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共 50 条
[1]
反向短沟道效应的减少 [P]. 
J·S·布朗 ;
S·S·弗卡伊 ;
小R·J·高蒂尔 ;
D·W·马丁 ;
J·A·斯林克曼 .
中国专利 :CN1319880A ,2001-10-31
[2]
改进器件反转短沟道效应的方法 [P]. 
周贯宇 ;
吕煜坤 ;
钱文生 .
中国专利 :CN101136369A ,2008-03-05
[3]
用于改善短沟道效应的方法以及半导体结构 [P]. 
李勇 .
中国专利 :CN108010846B ,2018-05-08
[4]
减少窄沟道效应的工艺方法 [P]. 
韩峰 ;
段文婷 .
中国专利 :CN102956534A ,2013-03-06
[5]
一种抑制CMOS短沟道效应的方法 [P]. 
黄晓橹 ;
毛刚 ;
陈玉文 ;
邱慈云 .
中国专利 :CN102427063A ,2012-04-25
[6]
具有减小的短沟道效应的SONOS存储器器件 [P]. 
罗伯茨·T·F·范沙吉克 ;
弗朗康艾斯·纽利 ;
米哈依尔·范杜里恩 .
中国专利 :CN101385087A ,2009-03-11
[7]
自对准沟道掺杂抑制CMOS短沟道效应及其制备方法 [P]. 
黄晓橹 ;
毛刚 ;
陈玉文 ;
邱慈云 .
中国专利 :CN102427062A ,2012-04-25
[8]
减少内存单元及相关结构的短沟道效应的方法 [P]. 
R·法斯图 ;
Y-S·何 ;
K·水谷 ;
T·瑟盖特 .
中国专利 :CN1826692A ,2006-08-30
[9]
克服短沟道效应提升频率的局部SOI LDMOS器件 [P]. 
王向展 ;
邹淅 ;
张易 ;
黄建国 ;
赵迪 ;
于奇 ;
刘洋 .
中国专利 :CN104157692A ,2014-11-19
[10]
一种抗短沟道效应的超短沟道MOSFET结构及其制造工艺 [P]. 
许一力 ;
李鑫 ;
杨琦 .
中国专利 :CN120730783A ,2025-09-30