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铜/钌/钽基材的化学机械抛光

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN200780040805.7
申请日：
2007-11-01
公开(公告)号：
CN101535442A
公开(公告)日：
2009-09-16
发明(设计)人：
弗拉斯塔·布鲁西克 周仁杰 克里斯托弗·汤普森 保罗·菲尼
申请人：
申请人地址：
美国伊利诺伊州
IPC主分类号：
C09K314
IPC分类号：
代理机构：
北京市柳沈律师事务所
代理人：
宋 莉
法律状态：
专利权的终止
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2018-10-26 专利权的终止 未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C09K 3/14 申请日:20071101 授权公告日:20130703 终止日期:20171101
2009-09-16 公开 公开
2009-11-11 实质审查的生效 实质审查的生效
2013-07-03 授权 授权
共 50 条
[1]
用于铜/钽基材的化学机械抛光浆料 [P]. 
弗拉斯塔·B·考夫曼 ;
罗德尼·C·基斯特勒 ;
王淑敏 .
中国专利 :CN1158373C ,2001-09-12
[2]
用于铜/钽基材的化学机械抛光浆料 [P]. 
弗拉斯塔·B·考夫曼 ;
罗德尼·C·基斯特勒 ;
王淑敏 .
中国专利 :CN1312843A ,2001-09-12
[3]
用于铜基材的化学机械抛光浆料 [P]. 
弗拉斯塔·B·考夫曼 ;
罗德尼·C·基斯特勒 ;
王淑敏 .
中国专利 :CN1301288A ,2001-06-27
[4]
含有铜和钌的基材的化学机械抛光 [P]. 
H·O·格文茨 ;
L·勒尼森 ;
M·劳特尔 ;
R·M·戈扎里安 ;
C·达施莱茵 ;
J·普罗尔斯 ;
魏得育 .
中国专利 :CN113195656A ,2021-07-30
[5]
含有铜和钌的基材的化学机械抛光 [P]. 
H·O·格文茨 ;
M·劳特尔 ;
魏得育 ;
W·L·仇 ;
R·M·戈扎里安 ;
J·普罗尔斯 ;
L·勒尼森 .
中国专利 :CN113195657A ,2021-07-30
[6]
含有铜和钌的基材的化学机械抛光 [P]. 
H·O·格文茨 ;
M·劳特尔 ;
魏得育 ;
W·L·仇 ;
R·M·戈扎里安 ;
J·普罗尔斯 ;
L·勒尼森 .
中国专利 :CN113242890A ,2021-08-10
[7]
铜/钌基板的化学机械抛光 [P]. 
克里斯托弗·汤普森 ;
弗拉斯塔·布鲁西克 ;
周仁杰 .
中国专利 :CN101296780A ,2008-10-29
[8]
低凹陷的铜化学机械抛光 [P]. 
史晓波 ;
J·A·施吕特 ;
J·罗斯 ;
M·L·奥尼尔 ;
M·格雷夫 .
中国专利 :CN106085245A ,2016-11-09
[9]
一种化学机械抛光组合物及其在铜化学机械抛光中的应用 [P]. 
梁珂 ;
徐锋 ;
王宏宇 ;
殷华 .
中国专利 :CN119162578B ,2025-06-20
[10]
一种化学机械抛光组合物及其在铜化学机械抛光中的应用 [P]. 
梁珂 ;
徐锋 ;
王宏宇 ;
殷华 .
中国专利 :CN119162578A ,2024-12-20
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