用于铜基材的化学机械抛光浆料

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN99806193.X

申请日：

1999-03-18

公开(公告)号：

CN1301288A

公开(公告)日：

2001-06-27

发明(设计)人：

弗拉斯塔·B·考夫曼罗德尼·C·基斯特勒王淑敏

申请人：

申请人地址：

美国伊利诺伊州

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

C09K314 H01L21302

代理机构：

柳沈知识产权律师事务所

代理人：

宋莉

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2004-07-14	授权	授权
2001-07-11	实质审查请求的生效	实质审查请求的生效
2001-06-27	公开	公开
2019-04-12	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C09G 1/02 申请日:19990318 授权公告日:20040714

共 50 条

[1]

用于铜/钽基材的化学机械抛光浆料 [P].

弗拉斯塔·B·考夫曼 ;

罗德尼·C·基斯特勒 ;

王淑敏 .

中国专利 :CN1158373C ,2001-09-12

[2]

用于铜/钽基材的化学机械抛光浆料 [P].

弗拉斯塔·B·考夫曼 ;

罗德尼·C·基斯特勒 ;

王淑敏 .

中国专利 :CN1312843A ,2001-09-12

[3]

铜的化学机械抛光浆料 [P].

荆建芬 ;

宋伟红 ;

顾元 ;

徐春 ;

宋鹰 .

中国专利 :CN1955239A ,2007-05-02

[4]

铜/钌/钽基材的化学机械抛光 [P].

弗拉斯塔·布鲁西克 ;

周仁杰 ;

克里斯托弗·汤普森 ;

保罗·菲尼 .

中国专利 :CN101535442A ,2009-09-16

[5]

用于化学机械抛光的浆料和化学机械抛光方法 [P].

加藤充 ;

冈本知大 ;

加藤晋哉 .

中国专利 :CN104471684A ,2015-03-25

[6]

化学机械抛光组合物和抛光铜基材的方法 [P].

夏欣妍 ;

欧阳广成 ;

肖桂林 ;

张季平 ;

高越 ;

夏元玲 ;

甄臻 ;

欧阳吉红 ;

汤舒嵋 .

中国专利 :CN120905676A ,2025-11-07

[7]

金属化学机械抛光浆料 [P].

张建 ;

荆建芬 ;

宋凯 ;

蔡鑫元 ;

杨俊雅 ;

潘依君 .

中国专利 :CN106929858A ,2017-07-07

[8]

化学机械抛光用浆料 [P].

崔银美 ;

申东穆 ;

曹升范 .

中国专利 :CN102414293B ,2012-04-11

[9]

用于化学机械抛光的浆料组合物 [P].

黄珍淑 ;

孔铉九 ;

黄寅卨 .

中国专利 :CN113308197A ,2021-08-27

[10]

化学机械抛光浆料和使用该浆料的化学机械抛光方法 [P].

李在东 ;

尹普彦 ;

韩镛弼 .

中国专利 :CN1288722C ,2003-09-10

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