含有铜和钌的基材的化学机械抛光

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980082189.4

申请日：

2019-12-12

公开(公告)号：

CN113242890A

公开(公告)日：

2021-08-10

发明(设计)人：

H·O·格文茨 M·劳特尔魏得育 W·L·仇 R·M·戈扎里安 J·普罗尔斯 L·勒尼森

申请人：

申请人地址：

德国莱茵河畔路德维希港

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

C09K314 H01L2130 H01L21321 H01L2102

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

张双双;刘金辉

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-08-10	公开	公开
2021-12-31	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09G 1/02 申请日:20191212

共 50 条

[1]

含有铜和钌的基材的化学机械抛光 [P].

H·O·格文茨 ;

L·勒尼森 ;

M·劳特尔 ;

R·M·戈扎里安 ;

C·达施莱茵 ;

J·普罗尔斯 ;

魏得育 .

中国专利 :CN113195656A ,2021-07-30

[2]

含有铜和钌的基材的化学机械抛光 [P].

H·O·格文茨 ;

M·劳特尔 ;

魏得育 ;

W·L·仇 ;

R·M·戈扎里安 ;

J·普罗尔斯 ;

L·勒尼森 .

中国专利 :CN113195657A ,2021-07-30

[3]

铜/钌/钽基材的化学机械抛光 [P].

弗拉斯塔·布鲁西克 ;

周仁杰 ;

克里斯托弗·汤普森 ;

保罗·菲尼 .

中国专利 :CN101535442A ,2009-09-16

[4]

铜/钌基板的化学机械抛光 [P].

克里斯托弗·汤普森 ;

弗拉斯塔·布鲁西克 ;

周仁杰 .

中国专利 :CN101296780A ,2008-10-29

[5]

用于化学机械抛光含有钌和铜的衬底的方法 [P].

H·王 ;

L·M·库克 ;

J-F·王 ;

C-H·曹 .

中国专利 :CN105313001A ,2016-02-10

[6]

用于铜基材的化学机械抛光浆料 [P].

弗拉斯塔·B·考夫曼 ;

罗德尼·C·基斯特勒 ;

王淑敏 .

中国专利 :CN1301288A ,2001-06-27

[7]

化学机械抛光组合物和抛光铜基材的方法 [P].

夏欣妍 ;

欧阳广成 ;

肖桂林 ;

张季平 ;

高越 ;

夏元玲 ;

甄臻 ;

欧阳吉红 ;

汤舒嵋 .

中国专利 :CN120905676A ,2025-11-07

[8]

用于铜/钽基材的化学机械抛光浆料 [P].

弗拉斯塔·B·考夫曼 ;

罗德尼·C·基斯特勒 ;

王淑敏 .

中国专利 :CN1158373C ,2001-09-12

[9]

用于铜/钽基材的化学机械抛光浆料 [P].

弗拉斯塔·B·考夫曼 ;

罗德尼·C·基斯特勒 ;

王淑敏 .

中国专利 :CN1312843A ,2001-09-12

[10]

铜的化学机械抛光浆料 [P].

荆建芬 ;

宋伟红 ;

顾元 ;

徐春 ;

宋鹰 .

中国专利 :CN1955239A ,2007-05-02

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