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等离子处理设备
被引:0
申请号
:
CN202111648858.5
申请日
:
2021-12-30
公开(公告)号
:
CN114360999A
公开(公告)日
:
2022-04-15
发明(设计)人
:
蔡瀚霆
匡友元
申请人
:
申请人地址
:
430079 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
代理机构
:
深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570
代理人
:
杨艇要
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-05-03
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20211230
2022-04-15
公开
公开
共 50 条
[1]
等离子处理设备
[P].
曾辉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
曾辉
.
中国专利
:CN114203509A
,2022-03-18
[2]
等离子处理设备
[P].
吴楚辉
论文数:
0
引用数:
0
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0
吴楚辉
;
王仲培
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王仲培
.
中国专利
:CN218414478U
,2023-01-31
[3]
等离子处理设备
[P].
朱鹏涛
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
朱鹏涛
.
中国专利
:CN222637221U
,2025-03-18
[4]
基座、等离子处理设备及等离子处理方法
[P].
深泽孝之
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
深圳市昇维旭技术有限公司
深圳市昇维旭技术有限公司
深泽孝之
.
中国专利
:CN120108998A
,2025-06-06
[5]
基座、等离子处理设备及等离子处理方法
[P].
深泽孝之
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
深圳市昇维旭技术有限公司
深圳市昇维旭技术有限公司
深泽孝之
.
中国专利
:CN120108998B
,2025-08-08
[6]
等离子处理设备及其等离子处理腔体
[P].
赵芝强
论文数:
0
引用数:
0
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0
赵芝强
;
赵公魄
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
赵公魄
;
丁雪苗
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
丁雪苗
.
中国专利
:CN108284284A
,2018-07-17
[7]
等离子处理设备
[P].
丁雪苗
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
丁雪苗
.
中国专利
:CN201674719U
,2010-12-15
[8]
等离子处理设备
[P].
丁雪苗
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
丁雪苗
.
中国专利
:CN201754646U
,2011-03-02
[9]
等离子处理设备的离子屏蔽板
[P].
田中一海
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
田中一海
.
中国专利
:CN306562532S
,2021-05-25
[10]
等离子处理设备及其等离子体约束环
[P].
张一川
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
张一川
;
范光伟
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
范光伟
;
顾继强
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
顾继强
.
中国专利
:CN119560359A
,2025-03-04
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