共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
基座、等离子处理设备及等离子处理方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510548416.5
申请日：
2025-04-28
公开(公告)号：
CN120108998A
公开(公告)日：
2025-06-06
发明(设计)人：
深泽孝之
申请人：
深圳市昇维旭技术有限公司
申请人地址：
518000 广东省深圳市龙岗区平湖街道辅城坳社区新源三巷1号B栋104
IPC主分类号：
H01J37/32
IPC分类号：
H01L21/683
H01L21/67
代理机构：
深圳市联鼎知识产权代理有限公司 44232
代理人：
唐逸飞
法律状态：
公开
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-06-06 | 公开 | 公开 |
| 2025-08-08 | 授权 | 授权 |
| 2025-06-24 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01J 37/32申请日:20250428 |