精确定位聚焦离子束修补位置的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510030010.0

申请日：

2005-09-26

公开(公告)号：

CN1941276A

公开(公告)日：

2007-04-04

发明(设计)人：

张启华江秀霞季春葵李冠华

申请人：

申请人地址：

201203上海市浦东新区张江高科技园区张江路18号

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L2168 H01L2166

代理机构：

上海新高专利商标代理有限公司

代理人：

楼仙英

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-09-17	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/00 申请日:20050926 授权公告日:20081224 终止日期:20180926
2007-04-04	公开	公开
2007-05-30	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-12-24	授权	授权
2012-01-04	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101257119582 IPC(主分类):H01L 21/00 专利号:ZL2005100300100 变更事项:专利权人变更前权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司变更后权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司变更事项:地址变更前权利人:201203 上海市浦东新区张江高科技园区张江路18号变更后权利人:201203 上海市张江路18号变更事项:共同专利权人变更前权利人:无变更后权利人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司登记生效日:20111123

共 50 条

[1]

精确定位前层缺陷的聚焦离子束制样方法 [P].

范荣伟 ;

陈宏璘 ;

龙吟 ;

顾晓芳 ;

刘祚钺 .

中国专利 :CN104198247A ,2014-12-10

[2]

聚焦离子束设备及聚焦离子束检测方法 [P].

赖李龙 .

中国专利 :CN101246132B ,2008-08-20

[3]

用于聚焦离子束处理的终点确定 [P].

S.E.富勒 ;

J.唐纳德 ;

T.西蒙特柴鲍沃尔恩 .

中国专利 :CN104428867B ,2015-03-18

[4]

聚焦离子束分析方法 [P].

段淑卿 ;

曹蓉 ;

齐瑞娟 ;

于会生 .

中国专利 :CN105097580A ,2015-11-25

[5]

聚焦离子束系统 [P].

高峰 ;

高强 .

中国专利 :CN119549924A ,2025-03-04

[6]

用于聚焦离子束设备的散热装置及其聚焦离子束设备 [P].

刘宝露 .

中国专利 :CN223206221U ,2025-08-08

[7]

聚焦离子束杂质鉴定 [P].

J.格雷厄姆 ;

L.克拉尔 .

中国专利 :CN111579890B ,2020-08-25

[8]

用于捕获离子束粒子和聚焦离子束的方法和系统 [P].

彼得·克雷曼 ;

维特·班威尼斯特 ;

亚历山大·普瑞尔 ;

布莱恩·弗瑞尔 ;

麦可·葛瑞夫 .

中国专利 :CN101432841B ,2009-05-13

[9]

聚焦离子束设备及其控制方法 [P].

柴田博文 .

中国专利 :CN1227961A ,1999-09-08

[10]

借助聚焦离子束的突出标记 [P].

许冠中 ;

程浩 ;

江争 .

中国专利 :CN104210304B ,2014-12-17

← 1 2 3 4 5 →