氧化物半导体、薄膜晶体管以及制造薄膜晶体管的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200810110123.5
申请日
2008-06-10
公开(公告)号
CN101339954A
公开(公告)日
2009-01-07
发明(设计)人
姜东勋 宋利宪 朴永洙 金昌桢 李银河 李在喆
申请人
申请人地址
韩国京畿道水原市灵通区梅滩3洞416
IPC主分类号
H01L2912
IPC分类号
H01L29786 H01L21336
代理机构
北京铭硕知识产权代理有限公司
代理人
郭鸿禧;罗延红
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
氧化物半导体薄膜以及薄膜晶体管 [P]. 
中山德行 .
中国专利 :CN104685634A ,2015-06-03
[2]
薄膜晶体管以及制造薄膜晶体管的方法 [P]. 
德永和彦 .
中国专利 :CN101710592A ,2010-05-19
[3]
薄膜晶体管的制造方法以及薄膜晶体管 [P]. 
滩秀明 ;
面了明 ;
滋野博誉 ;
坂田喜博 ;
奥村秀三 .
中国专利 :CN107408509A ,2017-11-28
[4]
氧化物半导体薄膜晶体管 [P]. 
黄金海 ;
孙伯彰 ;
黄思齐 .
中国专利 :CN103474468A ,2013-12-25
[5]
氧化物半导体薄膜晶体管 [P]. 
岛田干夫 .
中国专利 :CN101884110A ,2010-11-10
[6]
氧化物半导体薄膜晶体管 [P]. 
林振国 ;
谢志强 ;
李建 ;
任思雨 ;
苏君海 ;
李建华 .
中国专利 :CN107749422A ,2018-03-02
[7]
晶体氧化物半导体薄膜、晶体氧化物半导体薄膜的制造方法以及薄膜晶体管 [P]. 
井上一吉 ;
宇都野太 ;
霍间勇辉 ;
笘井重和 ;
江端一晃 .
中国专利 :CN107924822A ,2018-04-17
[8]
氧化物半导体薄膜和薄膜晶体管 [P]. 
中山德行 ;
西村英一郎 ;
井藁正史 .
中国专利 :CN108962724A ,2018-12-07
[9]
氧化物半导体薄膜和薄膜晶体管 [P]. 
中山德行 ;
西村英一郎 ;
井藁正史 .
中国专利 :CN105393360B ,2016-03-09
[10]
氧化物半导体薄膜及其制造方法以及薄膜晶体管 [P]. 
中山德行 .
中国专利 :CN104798205A ,2015-07-22