激光干涉光刻设备和方法

被引：0

申请号：

CN202011282106.7

申请日：

2020-11-16

公开(公告)号：

CN114509916A

公开(公告)日：

2022-05-17

发明(设计)人：

李文迪甘斫非闵思怡

申请人：

申请人地址：

中国香港薄扶林道

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

纪雯

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-06-03	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20201116
2022-05-17	公开	公开

共 50 条

[1]

激光干涉光刻设备和方法 [P].

李文迪 ;

甘斫非 ;

闵思怡 .

中国专利 :CN114509916B ,2024-03-08

[2]

全光纤激光干涉光刻设备和方法 [P].

李文迪 .

中国专利 :CN105467769B ,2016-04-06

[3]

激光干涉光刻系统 [P].

王磊杰 ;

朱煜 ;

张鸣 ;

徐继涛 ;

李鑫 ;

成荣 ;

杨开明 ;

胡金春 .

中国专利 :CN110806680A ,2020-02-18

[4]

使用衍射光栅的激光干涉光刻方法 [P].

金台洙 ;

金在镇 ;

申铉雨 .

中国专利 :CN101828140A ,2010-09-08

[5]

激光干涉光刻中的曝光光束相位测量方法和光刻系统 [P].

王磊杰 ;

朱煜 ;

张鸣 ;

徐继涛 ;

成荣 ;

李鑫 ;

杨开明 ;

胡金春 .

中国专利 :CN110716397B ,2020-01-21

[6]

一种激光干涉光刻系统 [P].

顾芯铭 ;

刘雨哲 ;

周延民 .

中国专利 :CN109521651A ,2019-03-26

[7]

一种激光干涉光刻系统 [P].

彭长四 ;

董晓轩 ;

张伟 ;

顾小勇 ;

周云 ;

刘维萍 .

中国专利 :CN102236267B ,2011-11-09

[8]

一种激光干涉光刻系统 [P].

邹快盛 ;

吴青晴 .

中国专利 :CN218332292U ,2023-01-17

[9]

一种激光干涉光刻系统 [P].

张锦 ;

冯伯儒 ;

蒋世磊 ;

候德胜 ;

宗德蓉 ;

苏平 .

中国专利 :CN2432001Y ,2001-05-30

[10]

采用全息光学元件的激光干涉光刻方法及其光刻系统 [P].

张锦 ;

冯伯儒 .

中国专利 :CN1690857A ,2005-11-02

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