晶片保持装置和沉积设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510264523.1

申请日：

2015-05-22

公开(公告)号：

CN105088168A

公开(公告)日：

2015-11-25

发明(设计)人：

松田拓也寺田贵洋新村忠松叶博小林浩秋守屋展行

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C23C1450

IPC分类号：

C23C16458

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

刘兴鹏

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-12-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101638515311 IPC(主分类):C23C 14/50 专利申请号:2015102645231 申请日:20150522
2018-04-03	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C 14/50 申请公布日:20151125
2015-11-25	公开	公开

共 50 条

[1]

晶片保持装置和使用了晶片保持装置的晶片的加工方法 [P].

关家一马 .

日本专利 :CN111063646B ,2025-01-14

[2]

晶片保持装置和使用了晶片保持装置的晶片的加工方法 [P].

关家一马 .

中国专利 :CN111063646A ,2020-04-24

[3]

晶片保持装置 [P].

A·施瓦贝迪森 ;

S·彼得斯 ;

K·东克尔 ;

M·容汉内尔 ;

E·贾泽姆博夫斯基 .

中国专利 :CN110387539B ,2019-10-29

[4]

旋转台用晶片保持机构及方法和晶片旋转保持装置 [P].

真下郁夫 ;

田村正树 ;

永井秀彰 .

中国专利 :CN109155272A ,2019-01-04

[5]

沉积装置和沉积设备 [P].

丁玉西 ;

祁文杰 ;

卢秋霞 ;

林佳继 .

中国专利 :CN119736581A ,2025-04-01

[6]

旋转台用晶片加热保持机构及方法和晶片旋转保持装置 [P].

吉田修 ;

田村正树 ;

永井秀彰 .

日本专利 :CN109155273B ,2024-01-02

[7]

旋转台用晶片加热保持机构及方法和晶片旋转保持装置 [P].

吉田修 ;

田村正树 ;

永井秀彰 .

中国专利 :CN109155273A ,2019-01-04

[8]

保持装置、载体保持装置系统以及晶片干燥设备 [P].

尼尔斯·卡斯腾森 .

中国专利 :CN211700199U ,2020-10-16

[9]

用于容纳和保持晶片的容纳装置 [P].

M.温普林格 ;

T.瓦根莱特纳 ;

A.菲尔贝特 .

中国专利 :CN103238212A ,2013-08-07

[10]

晶片沉积设备的颗粒清除装置及方法 [P].

李恩受 ;

朴绍延 ;

河圣守 ;

李圣徒 ;

陈昌炫 ;

李重宪 ;

金在贤 .

韩国专利 :CN118263153A ,2024-06-28

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