具有降低的残留物的组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810201038.3

申请日：

2018-03-12

公开(公告)号：

CN108567581A

公开(公告)日：

2018-09-25

发明(设计)人：

D·加西亚 S·考尔 J·尼古罗沃斯基 L·德雷德

申请人：

申请人地址：

美国新泽西州

IPC主分类号：

A61K837

IPC分类号：

A61Q1900

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

张静;余颖

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-03-24	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):A61K 8/37 申请日:20180312
2018-09-25	公开	公开

共 50 条

[1]

降低沟槽内残留物的方法 [P].

厉渊 ;

刘昌伙 .

中国专利 :CN101819930A ,2010-09-01

[2]

残留物含量降低的感光组合物连续液态加工法 [P].

M·R·麦基弗 .

中国专利 :CN100350327C ,2001-04-25

[3]

用于清除侧壁残留物的组合物 [P].

R·梅利斯 ;

M·伯尔纳 ;

L·阿尔诺德 ;

A·巴尔科 ;

R·莱茵 .

中国专利 :CN100375250C ,2005-08-31

[4]

用于去除刻蚀残留物的组合物 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

王淑敏 .

中国专利 :CN101490627B ,2009-07-22

[5]

清除蚀刻残留物的组合物及其应用 [P].

R·J·罗维托 ;

D·B·雷尼 ;

D·L·杜汉 .

中国专利 :CN1278975C ,2005-09-07

[6]

具有下游残留物清洗的球阀 [P].

安德拉斯·托莫尔 ;

彼得·托特 ;

阿约索·尼尔莫洛 ;

克里斯托弗·布莱登 ;

克里斯托弗·R·沙杰斯 ;

小拉里·D·雷 .

:CN120359372A ,2025-07-22

[7]

降低蚀刻的多层叠片中的残留物形成 [P].

F·Y·徐 ;

W·刘 ;

C·B·布罗克斯 ;

D·L·拉布拉克 ;

D·J·伦茨 .

中国专利 :CN101816062A ,2010-08-25

[8]

残留物的去除方法 [P].

李强 ;

丁士成 .

中国专利 :CN101567300B ,2009-10-28

[9]

用于去除蚀刻后残留物的清洁组合物 [P].

M·佩恩 ;

E·库珀 ;

金万涞 ;

E·洪 ;

S·金 .

中国专利 :CN110023477A ,2019-07-16

[10]

残留物的清除方法 [P].

侯红娟 ;

刘轩 ;

朱建野 .

中国专利 :CN106298442B ,2017-01-04

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