清除蚀刻残留物的组合物及其应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN03816222.9

申请日：

2003-07-10

公开(公告)号：

CN1278975C

公开(公告)日：

2005-09-07

发明(设计)人：

R·J·罗维托 D·B·雷尼 D·L·杜汉

申请人：

申请人地址：

美国宾夕法尼亚州

IPC主分类号：

C03C2300

IPC分类号：

C23G100 C23G102 B08B300 C11D1700 C11D1708

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司

代理人：

周承泽

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-09-07	公开	公开
2010-09-22	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101005899675 IPC(主分类):C03C 23/00 专利号:ZL038162229 申请日:20030710 授权公告日:20061011
2005-11-02	实质审查的生效	实质审查的生效
2006-10-11	授权	授权

共 50 条

[1]

用于除去蚀刻残留物的组合物及其应用 [P].

M·埃格伯 .

中国专利 :CN100367114C ,2005-10-26

[2]

用于清除侧壁残留物的组合物 [P].

R·梅利斯 ;

M·伯尔纳 ;

L·阿尔诺德 ;

A·巴尔科 ;

R·莱茵 .

中国专利 :CN100375250C ,2005-08-31

[3]

一种蚀刻残留物去除组合物 [P].

张文贝 ;

刘兵 ;

彭洪修 ;

郭辛煊 .

中国专利 :CN120272281A ,2025-07-08

[4]

残留物的清除方法 [P].

侯红娟 ;

刘轩 ;

朱建野 .

中国专利 :CN106298442B ,2017-01-04

[5]

用于去除蚀刻后残留物的清洁组合物 [P].

M·佩恩 ;

E·库珀 ;

金万涞 ;

E·洪 ;

S·金 .

中国专利 :CN110023477A ,2019-07-16

[6]

一种去除蚀刻残留物的组合物 [P].

蔡贝克 ;

刘兵 ;

彭洪修 ;

李志豪 ;

温启蒙 .

中国专利 :CN120230612A ,2025-07-01

[7]

蚀刻后残留物清洁组合物及其使用方法 [P].

孙来生 ;

李翊嘉 ;

王莉莉 ;

吴爱萍 .

中国专利 :CN110777021A ,2020-02-11

[8]

一种去除蚀刻残留物的化学组合物 [P].

张文贝 ;

刘兵 ;

彭洪修 ;

郭辛煊 .

中国专利 :CN120272922A ,2025-07-08

[9]

一种蚀刻残留物去除剂组合物 [P].

程章 ;

彭洪修 ;

刘兵 ;

吴兵 .

中国专利 :CN119414678A ,2025-02-11

[10]

一种AG玻璃蚀刻残留物清除装置 [P].

王鹏飞 ;

王立成 ;

蔡志光 ;

乔金柱 .

中国专利 :CN119187102A ,2024-12-27

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