一种蚀刻残留物去除组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311830979.0

申请日：

2023-12-28

公开(公告)号：

CN120272281A

公开(公告)日：

2025-07-08

发明(设计)人：

张文贝刘兵彭洪修郭辛煊

申请人：

安集微电子科技（上海）股份有限公司

申请人地址：

201201 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6－9幢底层

IPC主分类号：

C11D7/32

IPC分类号：

C11D7/26 C11D7/34 C11D7/60 C23G5/036 C23G5/032

代理机构：

上海市建纬律师事务所 31579

代理人：

李佳铭;王芳

法律状态：

公开

国省代码：

上海市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-08	公开	公开

共 50 条

[1]

一种去除蚀刻残留物的化学组合物 [P].

张文贝 ;

刘兵 ;

彭洪修 ;

郭辛煊 .

中国专利 :CN120272922A ,2025-07-08

[2]

一种蚀刻残留物去除剂组合物 [P].

程章 ;

彭洪修 ;

刘兵 ;

吴兵 .

中国专利 :CN119414678A ,2025-02-11

[3]

一种去除蚀刻残留物的组合物 [P].

蔡贝克 ;

刘兵 ;

彭洪修 ;

李志豪 ;

温启蒙 .

中国专利 :CN120230612A ,2025-07-01

[4]

一种用于蚀刻后残留物去除的组合物 [P].

夏德勇 ;

刘兵 ;

刘玉凤 .

中国专利 :CN120173682A ,2025-06-20

[5]

用于去除蚀刻后残留物的清洁组合物 [P].

M·佩恩 ;

E·库珀 ;

金万涞 ;

E·洪 ;

S·金 .

中国专利 :CN110023477A ,2019-07-16

[6]

一种去除蚀刻残留物的清洗液 [P].

程章 ;

刘兵 ;

肖林成 ;

彭洪修 .

中国专利 :CN113568286A ,2021-10-29

[7]

一种兼具WC去除和蚀刻残留物清洁的组合物 [P].

叶瑞 ;

谢建 ;

贺兆波 ;

吴政 ;

王亮 ;

孟牧麟 ;

刘春丽 ;

彭秋桂 ;

汪凡杰 ;

李宇 .

中国专利 :CN118185631A ,2024-06-14

[8]

用于去除刻蚀残留物的组合物 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

王淑敏 .

中国专利 :CN101490627B ,2009-07-22

[9]

残留物去除 [P].

金正男 ;

刘彪 ;

潘成 ;

埃莉卡·陈 ;

殷正操 ;

斯里尼瓦斯·D·内曼尼 ;

怡利·叶 .

中国专利 :CN112136204A ,2020-12-25

[10]

残留物去除 [P].

金正男 ;

刘彪 ;

潘成 ;

埃莉卡·陈 ;

殷正操 ;

斯里尼瓦斯·D·内曼尼 ;

怡利·叶 .

美国专利 :CN112136204B ,2024-10-11

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