残留物的去除方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810036585.7

申请日：

2008-04-24

公开(公告)号：

CN101567300B

公开(公告)日：

2009-10-28

发明(设计)人：

李强丁士成

申请人：

申请人地址：

201203 上海市张江路18号

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L21306

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

屈蘅;李时云

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-12-23	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-10-28	公开	公开
2011-04-20	授权	授权

共 50 条

[1]

残留物去除 [P].

金正男 ;

刘彪 ;

潘成 ;

埃莉卡·陈 ;

殷正操 ;

斯里尼瓦斯·D·内曼尼 ;

怡利·叶 .

中国专利 :CN112136204A ,2020-12-25

[2]

残留物去除 [P].

金正男 ;

刘彪 ;

潘成 ;

埃莉卡·陈 ;

殷正操 ;

斯里尼瓦斯·D·内曼尼 ;

怡利·叶 .

美国专利 :CN112136204B ,2024-10-11

[3]

去除铝残留物的方法 [P].

赖海长 ;

傅俊 ;

梁田 .

中国专利 :CN105336573B ,2016-02-17

[4]

去除刻蚀残留物的方法 [P].

王灵玲 ;

宋铭峰 ;

郭佳衢 ;

李建茹 ;

方标 ;

刘轩 ;

王秀 ;

郑莲晃 ;

王润顺 .

中国专利 :CN101063821A ,2007-10-31

[5]

化学机械研磨的残留物去除方法 [P].

邓武锋 .

中国专利 :CN102157368A ,2011-08-17

[6]

光阻残留物的去除方法及逻辑器件 [P].

刘玫诤 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110838437B ,2020-02-25

[7]

刮涂残留物的去除方法 [P].

谢自民 ;

李鹏辉 ;

郭向阳 ;

陈春明 ;

平财明 ;

王庆军 .

中国专利 :CN110045866A ,2019-07-23

[8]

化学机械研磨后残留物的去除方法 [P].

黄孝鹏 .

中国专利 :CN101894735A ,2010-11-24

[9]

化学机械研磨后残留物的去除方法 [P].

唐强 .

中国专利 :CN106158618A ,2016-11-23

[10]

化学机械研磨后残留物的去除方法 [P].

张斐尧 ;

李福洪 ;

杜应提 ;

薛景星 .

中国专利 :CN101197268A ,2008-06-11

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