刮涂残留物的去除方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910169280.1

申请日：

2019-03-06

公开(公告)号：

CN110045866A

公开(公告)日：

2019-07-23

发明(设计)人：

谢自民李鹏辉郭向阳陈春明平财明王庆军

申请人：

申请人地址：

215316 江苏省苏州市昆山市玉山镇城北开贵路11号3房

IPC主分类号：

G06F3041

IPC分类号：

代理机构：

上海光华专利事务所(普通合伙) 31219

代理人：

余明伟

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-08-16	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 3/041 申请日:20190306
2019-07-23	公开	公开

共 50 条

[1]

残留物的去除方法 [P].

李强 ;

丁士成 .

中国专利 :CN101567300B ,2009-10-28

[2]

残留物去除 [P].

金正男 ;

刘彪 ;

潘成 ;

埃莉卡·陈 ;

殷正操 ;

斯里尼瓦斯·D·内曼尼 ;

怡利·叶 .

中国专利 :CN112136204A ,2020-12-25

[3]

残留物去除 [P].

金正男 ;

刘彪 ;

潘成 ;

埃莉卡·陈 ;

殷正操 ;

斯里尼瓦斯·D·内曼尼 ;

怡利·叶 .

美国专利 :CN112136204B ,2024-10-11

[4]

去除铝残留物的方法 [P].

赖海长 ;

傅俊 ;

梁田 .

中国专利 :CN105336573B ,2016-02-17

[5]

去除刻蚀残留物的方法 [P].

王灵玲 ;

宋铭峰 ;

郭佳衢 ;

李建茹 ;

方标 ;

刘轩 ;

王秀 ;

郑莲晃 ;

王润顺 .

中国专利 :CN101063821A ,2007-10-31

[6]

去除光刻胶残留物的方法 [P].

林鑫 ;

陈浩 ;

樊航 ;

张其学 ;

金佩 ;

宋振伟 ;

王雷 .

中国专利 :CN118092093A ,2024-05-28

[7]

化学机械研磨后残留物的去除方法 [P].

黄孝鹏 .

中国专利 :CN101908465A ,2010-12-08

[8]

去除光刻胶残留物的方法、衬底 [P].

谢文春 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN121165414A ,2025-12-19

[9]

加工残留物去除设备 [P].

孙超 ;

苏晓帆 ;

王叶 ;

贺扬 ;

刘飞 .

中国专利 :CN207981781U ,2018-10-19

[10]

化学机械研磨的残留物去除方法 [P].

邓武锋 .

中国专利 :CN102157368A ,2011-08-17

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