化学机械研磨的残留物去除方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010110195.7

申请日：

2010-02-11

公开(公告)号：

CN102157368A

公开(公告)日：

2011-08-17

发明(设计)人：

邓武锋

申请人：

申请人地址：

201203 上海市张江路18号

IPC主分类号：

H01L21306

IPC分类号：

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

屈蘅;李时云

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-08-17	公开	公开
2013-07-31	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101644024023 IPC(主分类):H01L 21/306 专利申请号:2010101101957 申请公布日:20110817
2011-09-28	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101113911539 IPC(主分类):H01L 21/306 专利申请号:2010101101957 申请日:20100211

共 50 条

[1]

化学机械研磨后残留物的去除方法 [P].

黄孝鹏 .

中国专利 :CN101908465A ,2010-12-08

[2]

化学机械研磨后残留物的去除方法 [P].

黄孝鹏 .

中国专利 :CN101894735A ,2010-11-24

[3]

化学机械研磨后残留物的去除方法 [P].

唐强 .

中国专利 :CN106158618A ,2016-11-23

[4]

化学机械研磨后残留物的去除方法 [P].

张斐尧 ;

李福洪 ;

杜应提 ;

薛景星 .

中国专利 :CN101197268A ,2008-06-11

[5]

残留物的去除方法 [P].

李强 ;

丁士成 .

中国专利 :CN101567300B ,2009-10-28

[6]

一种去除蚀刻残留物的化学组合物 [P].

张文贝 ;

刘兵 ;

彭洪修 ;

郭辛煊 .

中国专利 :CN120272922A ,2025-07-08

[7]

去除刻蚀残留物的方法 [P].

王灵玲 ;

宋铭峰 ;

郭佳衢 ;

李建茹 ;

方标 ;

刘轩 ;

王秀 ;

郑莲晃 ;

王润顺 .

中国专利 :CN101063821A ,2007-10-31

[8]

化学机械研磨设备及其防止化学机械研磨残留的方法 [P].

丁弋 ;

樊文斌 .

中国专利 :CN104128874A ,2014-11-05

[9]

化学机械研磨设备及化学机械研磨方法 [P].

李福洪 .

中国专利 :CN101362313B ,2009-02-11

[10]

避免研磨浆料残留的化学机械研磨方法及设备 [P].

邓清文 ;

高明星 ;

林进坤 ;

蔡尔扬 ;

刘丽莉 .

中国专利 :CN100385632C ,2006-12-06

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